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工业纯Fe的电子背散射衍射(EBSD)分析
工业纯Fe的电子背散射衍射(EBSD)分析
刊号:2008 年第 5 期 作者:
摘要:本文以工业纯Fe片为例,验证了电子背散射衍射的分析
方法及其应用。电子背散射系统(EBSD)与能谱(EDS)作为重要附
件与扫描电镜一起工作可以将显微形貌、显微成分和显微取向三者集
于一体,当电子束逐点扫描分析时还可得到一种全新的图像晶体取向
分布图,从而获取显微区域的形貌、成分及结构的面分布的定量分布
结果。
关键词:电子背散射衍射;工业纯铁;扫描电镜;晶体取向
20世纪90年代初,电子背散射衍射技术(electron backscatte
red diffraction,EBSD)开始应用于扫描电子显微镜(SEM)中。此技
术可以对块状样品上纳米级显微组织逐点作晶体学分析,获得晶体取
向图,使扫描电镜上的显微组织、微区成分与晶体学或织构的分析相
结合,改变了传统的显微组织和晶体学分析是两个分支的研究方法,
大大地拓展了SEM的应用范围。目前电子背散射衍射仪已经变成了类
似于X射线能谱仪(EDS)的SEM的一个标准附件,成为材料工作者、
[1]
陶瓷和地质矿物学家分析显微结构及织构的强有力的工具 。本文通
过对工业纯Fe片的研究分析了电子背散射技术(EBSD)的实际应用。
1 实验方法
1.1 试样制备
电子背散射颜色花样(Electron Backscatter Pattern,EBSP)
[2]
取自样品表面5nm深度范围内 ,要获得一张清晰的衍射谱,样品制
备极其关键。EBSP要求试样表面高度光洁,在测试前必须对试样进
行表面研磨抛光处理,但在研磨抛光中形成的加工形变层会导致图像
灰暗不清晰,应除去。通常的制样方法为,常规金相样品制备+电解
抛光/腐蚀。不同的材料可以灵活采用不同的表面加工方法,金属材
料可采用化学或电解抛光去除形变层;离子溅射减薄可去除金属或非
金属材料研磨抛光中形成的加工形变层;某些结晶形状规则的粉末材
[3]
料可直接对其平整的晶面进行分析 。
本研究采用传统金相制备方法制备样品,然后用颗粒度小于0.5
μm的抛光剂抛光处理,用稀硝酸腐蚀样品表面,清水冲洗后烘干,
也得到了较好的测试结果。
1.2 实验设备
实验使用的仪器是SEM SIRION-100(FEI公司,荷兰)和电子
背散射衍射仪(TSL公司,美国)。
如图1所示为美国TSL公司EBSD系统的基本构成。除了扫描电
子显微镜外,EBSD系统基本由 DigiView相机、图像处理系统和计算
机系统组成。EBSD的采集需要将样品倾斜为 70.5°,以增强背散射
信号,荧光屏与高灵敏的DigiView相机相连,EBSD经放大处理后显
示在计算机显示器上,然后经软件进行EBSD的菊池带识别和标定。
1.3 实验步骤
[4]
EBSD的主要分析步骤有 :
(1)制备样品。
(2)用标准样品校正显微镜、样品和衍射仪的位置,并检查电
镜工作状态是否正常。
(3)安装样品(使用EBSD专用样品台)。
(4)用SEM获取一幅图像,并确定分析区域,使样品待分析区
域位置与标样上校正点处于同一聚焦位置。
(5)条件设定,收集EBSD,计算机标定图谱。
(6)数据存储,方便进一步处理和输出。
图 1 EBSD 系统基本结构示意图
图2 纯Fe片的取向成像图
图3
1.4 数据表示
EBSD的数据表示分为两大类,一类是从传统的宏观织构测量中
衍生出来的方法:理想取向、极图、反极图、欧拉空间;另一类是由
显微织构得出的晶体取向及相互之间的关系的测量方法:快速晶体取
向分布图、特殊晶界类(MAP)、重位点阵晶界(CSL)、RF空间图
(Rodrigeuz Frank)、所有晶界取向错配度图形、重构的晶粒尺寸。
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