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193-nm 光刻中的光致抗蚀剂 - 影像科学与光化学
18 1 Vo1. 18, No. 1
2000 2 PHOT OGRAPHIC SCIENCE AND PHOT OCHEMISTRY Feb. , 2000
综 述
*
193- nm
* *
陈 明 陈其道 洪啸吟
( , 100084)
193-nm, 化学增幅抗蚀剂, 光刻, 光敏产酸物
, ,
. ,
[ 1,2]
.
, .
[ 3~ 7] . ,
, .
R K, NA( R = kK/ NA ) . ,
, G (436nm) , I ( 365 nm)
( 248 nm) .
, 248-nm KrF ,
, 256M , 0118 Lm . 1G
, 0115 Lm .
. 248-nm ,
( P ase S ift) , OPC( Optical Proximity Correction) ,
011Lm , 1G ,
. , 193-nm ArF 1G ,
193-nm , [8~ 10] .
248-nm , 193-nm .
193-nm .
1 248-nm 193-nm
( Single-layer-resist, SLR) , ( Top-
1999-06- 01 , 1999-07-21 .
* ( :
* *
77
78 18
surface-imaged, T SI) ( Bilayer-resist, BlR) . ,
,
[ 11]
.
, G ( 436-nm) ( )
) I ( 365-nm) , G I
. I 248-nm KrF ,
[7]
. 248-nm ,
, .
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( PAG) , ,
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,
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.
1
248-nm , 193-nm
, . , 193-nm , .
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,
, 193-nm . , 193-nm
.
1 : 193-nm 79
2 193-nm
193-nm ,
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nm , :
1) ( ) ;
2) ( 130~ 170 e ) ;
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, 193-nm
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.
211
() 193-nm
[ 12~ 14] . , ,
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[ 15, 16] [ 17] [ 18]
T osiba NEC
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