Ultra-100多功能集成清洁和单分子层气态镀膜系统 - Nanonex.PDF

压印设备压印模版压印胶压印工艺 提供完整的纳米压印解决方案 Ultra- 100清洁和单分子层成膜机集成了清洁和单分子层气态成膜功能 与一体，可以用于纳米压印模具和基板提供单分子层分辨能力的成膜 和清洁任务，也可以广泛用于其他需要真空，紫外，加热，成膜的各 Engine for NanotechnologyTM 种应用，诸如光刻模具的清洁和成膜处理等。Ultra- 100集成了真空， 紫外O-Zone清洁，紫外聚合，单分子层气态成膜等能力与一体，可以 选择单一或多元化学气体，只要按一个操作按钮，Ultra- 100就可以全 自动运作。Ultra- 100的桌面设计非常简洁，性能优秀可靠稳定。 集成真空，紫外，加热，单分子 主 层成膜多功能于一体 要 集成清洁和单分子层成膜于 特 一键操作 点 杰出的膜覆盖能力及均匀性 优异的清洁能力 适合各种大小的基板和模板  1″, 2″, 3”, 4”, 6”or 8″  各种尺寸及不规则形状模 板与基板均可 全自动化程序控制操作 可接多种化学气体 单分子层气体成膜高分辨率 快速工艺循环时间 极高的用户灵活性 紧凑台式设计 性价比最优 基于超过12年、15代产品开发 经验的自动化操作 Nanonex系统经过大量实时实 Ultra-100 多功能集成清洁和单分子层 地验证，质量可靠，性能优 越稳定 气态镀膜系统 尺寸 气体，紫外Ozone和加热 系  样品尺寸：上限是8”x8”  真空： 100 mTorr 其 纳米压印模板防粘处理 统  腔体尺寸：10”x10”x5.75”  最多4个气体接口可用于单分子 他 表面粘合度增加处理 参  全部机器尺寸：27”x21”x8.75” 气体镀膜 参 全方位紫外Ozone清洁处理 数  2”直径排气管 数 去光刻胶处理 去残留膜处理 典型基板  紫外灯波长：185纳米，254纳米， MEMS，NEMS抗粘连镀膜处理  硅和氧化硅 365纳米，436纳米 微米，纳米流道表面处理  砷化镓（GaAs ）  紫外光功率：250瓦 真空紫外聚合处理  磷化铟（InP)  紫外光强度： 10mW/cm2 特殊环境气体下的紫外光聚合处理  玻璃，石英，熔石英 (254nm波长）  金属  基板加热能力：700瓦，最大温  陶瓷材料