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不同衬底上的ZnO 薄膜紫外光致发光 - 物理学报
第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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不同衬底上的!# 薄膜紫外光致发光!
张德恒 王卿璞 薛忠营
(山东大学物理与微电子学院,济南 !#$## )
( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿)
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用射频磁控溅射法在蓝宝石、硅和石英衬底上沉积出具有好的择优取向的多晶 薄膜 在 波长的光
’() * !%# (+
激发下室温下可观察到显著的紫外光发射(波长为 )和较弱的蓝光发射(波长为 )经高温退火后薄膜
,- (+ ..- (+ *
的结晶质量显著提高,在蓝宝石、石英衬底上沉积的薄膜,其积分发光强度分别增加了 倍和 倍 而硅衬底上的
% $. *
膜发光强度增强不太显著* 紫外光发射源于电子的带间跃迁,而蓝光发射是由电子从氧空位浅施主能级到价带顶
的跃迁引起的*
关键词: 薄膜,射频磁控溅射,紫外发光,退火
’()
: , ,
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本研究尝试用蓝宝石、硅和石英作衬底材料用
$1 引 言 射频溅射方法制备’() 发光薄膜,研究所制备薄膜
的发光特性,并试图通过在高温下在氧气中热退火
近年来,由于蓝光和紫外光等短波长发光器件 改善薄膜的结构和发光特性*
和激光器的巨大市场需求,对直接宽带隙半导体材
料的研究越来越受到人们的重视* 作为第三代半导 ! 1 实 验
体材料的典型代表, 蓝光材料成为目前研究的
234
热点* ’() 和234 同为六角纤锌矿结构,有相近的 ’() 薄膜是在一个;2= .# 型射频磁控溅射
晶格常数和禁带宽度 与 相比, 具有较高 系统中制备的 用机械泵和分子泵组成的二级抽气
* 234 ’() *
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的激子束缚能(约-#+56 ) ,理论上在室温下即能
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