化学增幅抗蚀剂用光产酸剂)))硫鎓盐的合成方法-《中国环境管理干部.PDFVIP

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2017-06-30 发布于天津
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化学增幅抗蚀剂用光产酸剂)))硫鎓盐的合成方法-《中国环境管理干部

15 2 V ol. 15No. 2 2005 6 JOU RNAL OF EM CC Jun. 2005 : 1008-813( 2005) 02-0055-0 : X63 : A 化学增幅抗蚀剂用光产酸剂) ) ) 硫鎓盐的合成方法王文君 ( 中国环境管理干部学院, 河北秦皇岛 06600 ) : 介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展化学幅光致抗蚀剂用光产酸剂) ) ) 硫鎓盐的主要合成方法, 同时介绍了 193nm 光致抗蚀剂所使用的光产酸剂及其合成方法, 指出合成 193nm 光致抗蚀剂用光产酸剂的重要性 : 光产酸剂; 193nm ; 光致抗蚀剂; 化学幅; 硫鎓盐 Photoacid generator used in the chemical amplified photoresist ) ) ) the method of synthesization of sulfonium salts WANG Wen-jun ( Env i ronme nt al M anag em ent Col leg e of Chi na , Qinh uang dao H ebei 06600 ) Abstract: This paper introduces the latest development of the photoresist and the photoacid generator ( PAG) used in the chemical amplified photoresist- the preparation of the sulfonium salts. M eantime, PAGs in the 193nm photoresist is discussed. It points out that it is very significant to prepare the PAGs used in the 193nm photoresist. Key words: photoacid generator; 193nm; photoresist; chemical amplification; sulfonium salt , , , , , : , 2um1. 2um 0. 8um0. 1um , , , g 36nmI 365nm KrF 2 8nmKrCl , 222nmArF 193nm, F2 157 nmAr 126nm 193nm ArF , 1G Willson Ito 80 , : 2005-03-21 : ( 1971) ) , , , , , 56