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化学增幅抗蚀剂用光产酸剂)))硫鎓盐的合成方法-《中国环境管理干部
15 2 V ol. 15No. 2
2005 6 JOU RNAL OF EM CC Jun. 2005
: 1008-813( 2005) 02-0055-0 : X63 : A
化学增幅抗蚀剂用光产酸剂) ) )
硫鎓盐的合成方法
王文君
( 中国环境管理干部学院, 河北 秦皇岛 06600 )
: 介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展化学 幅光致抗蚀剂用光产酸剂) ) ) 硫鎓盐的
主要合成方法, 同时介绍了 193nm 光致抗蚀剂所使用的光产酸剂及其合成方法, 指出合成
193nm 光致抗蚀剂用光产酸剂的重要性
: 光产酸剂; 193nm ; 光致抗蚀剂; 化学 幅; 硫鎓盐
Photoacid generator used in the chemical amplified photoresist
) ) ) the method of synthesization of sulfonium salts
WANG Wen-jun
( Env i ronme nt al M anag em ent Col leg e of Chi na , Qinh uang dao H ebei 06600 )
Abstract: This paper introduces the latest development of the photoresist and the photoacid
generator ( PAG) used in the chemical amplified photoresist- the preparation of the sulfonium
salts. M eantime, PAGs in the 193nm photoresist is discussed. It points out that it is very
significant to prepare the PAGs used in the 193nm photoresist.
Key words: photoacid generator; 193nm; photoresist; chemical amplification; sulfonium salt
, ,
,
, ,
: , 2um1. 2um
0. 8um0. 1um ,
, , g 36nmI
365nm KrF 2 8nmKrCl
, 222nmArF 193nm,
F2 157 nmAr 126nm
193nm ArF
, 1G
Willson Ito 80 ,
: 2005-03-21
: ( 1971) ) , , , , ,
56
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