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以化学气相沉积法制备之二氧化钛光催化活性研究-文化大学机构典藏
中文摘要
本研究係以電漿激發化學氣相沉積 (PECVD) 法,利用氮氣輸送
四異丙基鈦酸酯 (Ti (OC H ) ) 之蒸氣 ,以氧氣當電漿激發氣體產生
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反應 ,沉積二氧化鈦觸媒薄膜於矽基板上,並以此觸媒進行甲醇蒸氣
之光催化反應研究其觸媒活性。製備二氧化鈦觸媒薄膜之控制因子包
括基板溫度 、氧氣流量 、退火溫度及電漿射頻功率 ,經由 X 光粉末
繞射儀 (XRD) 、場發射掃描式電子顯微鏡 (FESEM) 、化學分析電子
能譜儀 (ESCA) 及三維奈米拉曼螢光顯微鏡 (Raman) ,分析觸媒薄
膜表面特性 ,並以氣相層析儀 (GC) 偵測甲醇 ,探討不同製程條件之
二氧化鈦觸媒薄膜對甲醇蒸氣轉化率之影響。
實驗中發現 ,以 Scherrer equation 估算二氧化鈦之顆粒粒徑 介於
25.966 nm~33.329 nm 之間 。適當的基板溫度 、氧流量 、退火溫度及
射頻功率 ,有助於二氧化鈦銳鈦礦相的生成 ,並發現二氧化鈦觸媒薄
膜在基板溫度 500℃、氧流量 70 sccm 、退火溫度 700℃及射頻功
率 100 W時 ,得到最佳的 Anatase TiO 觸媒薄膜 。在甲醇初始濃度
2
144 ppmv ,溼度 2.94 ppmv ,反應溫度 75℃,不同光源 (紫外光 365
nm, 8 W 、254 nm, 8 W及日光燈, 8 W)照射距離 1 cm下 ,以批次反應
器進行甲醇蒸氣之光催化分解 ,進行 60 分鐘光照反應。在此三種光
源照射下得到最大甲醇轉化率分別為 43.126% 、47.438% 及
9.919% ,且皆符合 L–H model 之一階動力模式 。
關鍵詞 :電漿激發化學氣相沉積 、光催化、甲醇
I
Abstract
This investigation was to prepare TiO2 catalyst films in the
photocatalytic reaction of methanol vapor by Plasma-Enhanced Chemical
Vapor Deposition (PECVD) method, using titanium (IV) isopropoxide (Ti
(OC H ) , TTIP) as a precursor. The vapor of TTIP was carried by
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nitrogen, and mixed with oxygen to form TiO2 catalyst films on Si wafer.
The prepared parameters
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