应用化学滤网去除某晶圆厂黄光区洁净室的氨气-中华民国工业安全.PDF

█ 論著與譯文 █ 應用化學濾網去除某晶圓廠 黃光區潔淨室的氨氣 劉興學、鄧志偉、蔡春進、李壽南 每立方公尺的微粒數。 壹、緒論 然而隨著製程特徵尺寸 (feature 一、前言 size)的快速縮小，傳統的潔淨度分級 已無法滿足生產製程對環境空氣品質 半導體生產製程包含精密的微機 標準的嚴格要求。隨著半導體元件之 電和積體電路，對於生產環境之潔淨 線寬微影技術的進展由 10 年前的 度的要求特別嚴格，因此整個製造過 0.5~0.35 μm 縮小至 3 年前的 0.25~0.1 程都在嚴格控制的環境條件下進行， μm ，而現在又由於浸潤式微影製程的 也 就 是 一 般 熟 悉 的 潔 淨 室 （ clean 發明，又將線寬縮小至 32nm ，使得製 room ）。傳統上，潔淨室的潔淨度分 程環境污染的防治重點已由微粒轉移 級，乃根據美國聯邦標準第 209E 規 至氣態分子污染物（AMCs, Airborne 定、以每立方英尺空氣中大於或等於 Molecular Contaminations ）上。 0.5 μm 之微粒的數目作為分級標準如 針對 AMCs 與 Particle 的污染， 表 1 所示[1] ，例如class 100 的潔淨度 Muller et al [2]於 1994 年的研究指 即表示每立方英尺空氣中≧0.5 μm 的 出，在 Class 100 的潔淨室內總有機氣 微粒數目不得大於 100 顆。 態污染物濃度約 100 μg/m3 ，粒狀污染 ISO 對潔淨室等級劃分，限於微 物濃度則為 20 ng/m3 ，兩者的濃度相 粒的直徑在 0.1 μm 到 5 μm ，在此範圍 差了 5000 倍以上，所以氣態分子污染 之外就不列入等級表。ISO 等級本身 物沉積於晶圓表面之質量沉積可能為 歸類 ISO Class 1 到 ISO Class 9 ，其允 微粒的數萬倍以上。AMCs 的污染濃? 許上限的定義是大於等於該粒徑的微 與目前之潔淨室等級並無直接的關 粒數，數目字如表 2 所示[4] ，單位是 係，Kitajima and Shiramizu 於 1997 年 8 工業安全衛生月刊