制备高品级氮化铝以作电子材料应用.PDFVIP

工业陶瓷 19g1年第4期(总第5O期) 制备高品级氮化铝以作 电子材料应用 P．A． ]aneway 氧化铝和氧化铍作为 电子材料已被应用 tmologies。然而最近情况发生 了变化 。今年 了数十年了。但是这种局面正在迅速改变。 4月，Dew化学工业公司宣布进入氮化铝粉 陶瓷家族的新成驰氨亿铝将在许多应用方面 末市场，座落在密执安州的新工厂是根据该 取代氧化铝和氧化镀。今天设计9们正在考 公司i988年进行的中试厂改建的。 虑氮化铝的商业化方面的可靠性应用，它是 新工厂 以每年!口0，000磅 的生产能力大 电子和结构材料领域均优 良候选材辩。这些 大提高了该公司采用碳热还原法生产各种非 应用中，电绝缘、热传导和耐化学腐蚀往， 氧化物产品的产量。该公司的结果表 明，碳 高温性能等是主要考患因素。 热还原工艺制备的粉末纯度高，并且可以控 月前已有很多的粉末供应厂家，而1985 制颗粒尺寸，形貌和分布 。高纯 是使氮化 年 只有两家。开始制备时，粉末佳能不稳定 ， 铝达到 电子陶瓷应用所要求 的高热导率 的基 同样最终产品接片也不稳定。这种情况持续 础。控制颗粒尺寸和分布使烧结更容易，并 了一段时问，今天柱市场上仍可 以发现这种 且可使部件获得高的密度和 晶粒均匀性。 情况 。 Dew的开发过程 ： 根据生产工艺，氮化铝粉末可分为两大 1986年 ：粉末合成和致密化开发 类。一类是直接氯化法 ，在此工艺中金属铝 1987年 ：在必威体育官网网址协议下进行粉末样 品的 被氨气氨化而生成氮化铝粉末 。另一类是氧 实验室试验 化铝碳热还原，这种方法生产出的粉末与前 1988年 ：中间试验 者不同。作 电子方面应用时，碳热还愿法生产 i989年：鉴定TokuyamaSoda专利实施 出的粉末较直接氮化法 易于利用。氨化法制 权书。 备的粉末可 以直接使用，但生产过程控制更 1989年：开始销售粉末 严格。直接氮化法粉末成本低，因此作为非 1989年：开始喷雾干燥 电子材料应用时．它是一种 很 好 的候选材 1989年 ：供应配方粉末 料。直接氮化法生产的粉末越米越接近碳热 199{}年 ：生产工厂质量鉴定 还原法。显然，直接氮化法粉末生产厂家想 1991年 ：中试厂转为生产厂 打进 电子市场，他们 已找到生产出可与碳热 该厂生产总量包括100，000磅 ／年的高纯 还原法相媲美的粉末的途径 氯化铝粉束 ，喷雾干燥能力约20，000磅／年， H本和德国已占领氮化锅生产 节l场。 提供喷雾干燥和配方粉末料(已加入粘结剂 主 要 J 家 为TokuyamaSoda DenkM{f 雨I烧结助剂)及最主要的HfJ札套技 术 和分析 Toyo铝业公刮；德崮主要冉H．C．Starck 波施 椰ESK／Wacker。美凼烁米唯一 一家生 ：氮 正如当年开发氧化铝和氧化铍一样，氢 化铝的公司是AdvancedRefractorYTee— 化