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微电子 3 纯水分析展望 快讯 THORNTON Leading Pure Water Analytics 通过超纯水回收利用 实现可持续性与正投资回报率 鉴于超纯水生产成本与环境因素,简单地将废水直接排放掉是不可思议 的。采取回收/ 再循环/二次利用策略可使回收率高达85 %。过程分析测量 是经济有效地最大限度实现水回收的关键。 超纯水回收利用迫在眉睫 生产线管理人员逐渐意识到回收/ 现代微电子产业的产线正常运行, 循环/再利用以及减少废水排放的 需要连续不断的超纯水供应,对 价值,尤其是对于一整套的超纯 于制造生产而言超纯水的需求量 水系统而言。例如:半导体生产商 达到500 立方米/小时甚至更多。仅 买购买1 美元水,需要花费至少20 就晶元加工而言,每条生产线的超 美元使其达到超纯水标准,另外还 纯水日消耗量就高达4000 到12000 需花费10 美元进行排放处理。 立方米 伴随着微电子行业的产业 拓展以及更先进的技术应用,这些 超纯水连续监测至关重要 对有限的水资源,排放处理系统以 对生产线进行高效率管理,唯一经 及当地水利基础设施到带来了更 济有效的长期解决方案是实施有 大的负担。 效的回收利用策略,对清洗废水进 行连续监测、控制同时进行 合理 随着世界微电子技术的进步以及 分类、收集。 全球范围内生产线产能的扩张,超 纯水制备在投资支出和排放成本 生产半导体晶圆需要使用污染物 方面也同步不断上涨。面对这些技 含量极低的超纯水,需要使用特 术挑战的解决方案是:通过再生对 殊的温度补偿算法进行准确测 超纯水进行循环和回收利用,从而 量,从而实现高度准确性。半导体 用于装置内相同或者其他不同的 生产过程需要使用大量超纯水和 工艺单元中 5000TOCe 总有机碳传感器 技术难题之一。事实上,SIA 指出 电子行业的可持续性 用水问题是在某些地理区域中选 j 社区关系回收/再循环/重新 择晶圆厂厂址与规模时受限的重 利用表明认识到水资源对于 要因素。 当地社区的重要性 一定数量化学试剂,导致大量的 目前,许多生产厂的水回收率仅为 再生利用的主要策略是使水质符 废水产生。 10 – 20 % ,而其他一些生产厂的回 合晶圆厂对于水的要求,从而减少 收率超过 40 % 。然而,大多数领先 总用水量。节约用水可在至少三个 耗水量大的加工工艺段包括:化学 的全球公司已经实施了将回收/再 不同方面得以体现: 机械抛光、光刻、蚀刻、脱膜、圆晶 循环/重新利用率提高至80 % 以上 j 提高超纯水系统的效率 清洗和背部研磨等,这些工艺段将 的战略。在美国西南地区、中国台 j 系统地实施循环和回收策略 产生大量水质千差万别的工艺排 湾、新加坡和以色列这样水资源 j 环境设计(设计源自生产过 放废水。由于pH 值、溶氧、电导率/ 紧缺的地区,微电子制造的长期 程的废水) 电阻率、T OC 、溶解与悬浮固体和 可行性受到严重质疑。事实上,目 金属污染物之间差异巨大,因此给 前一家晶圆生产厂或代工厂通常 梅特勒-托利多熟知超纯水生产所 废水处理厂提出了巨大挑战。

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