技术清洁度检测系统.PDFVIP

技術清潔度檢測系統 CIX100 OLYMPUS CIX series 技 術 清 潔 度 檢 測 系 統 技 術 清 潔 度 檢 測 系 統 步驟01 步驟02 步驟03 步驟04 步驟05 步驟06 提取 過濾 過濾 檢驗 複審 結果 g 清潔檢測的標準步驟: 準備(步驟 1 — 3)和檢測 (步驟 4 — 6) 組件與零部件的清潔對於生產工藝十分重要。對於開發、製造、批量生產以及成品質量控制的所有 流程，滿足對常見微觀尺寸污染物和異物顆粒的計數、分析和分類的高標準要求是非常重要的。由 於顆粒污染物對於零部件的使用壽命存在直接影響，國際和國家指令對於確定重要機械部件顆粒物 污染的方法和存檔要求均有表述。此前，使用殘留顆粒物的質量來描述殘留物特徵。當前使用的標 準對諸如顆粒物數量、顆粒物尺寸分佈以及顆粒物特徵等污染屬性提出了更詳細的信息要求。 奧林巴斯CIX100清潔度檢測系統專為滿足現代工業及國家和國際標準的清潔度要求而特別設計。 1 清潔度過程控制的 全面解決方案 可靠 硬件與軟件無縫集成的耐用型高效率系統能夠提供可 靠、精確的數據。 直觀 使用方便的專用工作流可大大減少用戶操作並確保數據 可靠性——對操作員的水平無特殊要求。 高速 創新的一體式掃瞄解決方案讓完成掃瞄的速度是傳統調 節檢偏鏡式檢測系統的兩倍。實時顯示顆粒物的計數和 篩選過程，並且配有便於修改檢測數據的強大易用型工 具。 兼容 一鍵報告功能可滿足國際標準規定的要求及原則。 2 可靠的全套系統解決方案： 實現高度可再現性的自動化和精確度 奧林巴斯CIX100系統是專為滿足自動化清潔度 可再現成像條件 檢測需求的整體解決方案。所有部件均已針對 高效率系統數據的精確性、可再現性、可重複 通過受保護的相機對齊 後鎖定避免意外錯位， 性以及無縫集成進行優化。該系統專為獲得卓 可再現成像條件。 越的光學性能、可再現觀察條件以及可重複性 而設計。同時，該清潔度檢測系統還可通過自 動化執行關鍵任務功能來大大減少人為錯誤。 卓越的光學品質 通過奧林巴斯UIS2物鏡和 高分辨率相機等優質光學 組件獲得用於分析的完美 圖像質量。 經久耐用