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集成电路计算机辅助设计 集成电路制造与版图基础 微电子学院 高海霞 Email: hxgao@mail.xidian.edu.cn 集成电路设计与制造的主要流程框架 集成电路的设计过程 集成电路的制造过程 集成电路版图的作用 芯片加工：从版图到裸片 集成电路版图的作用 所设计的版图 集成电路版图的作用 加工后得到的实际芯片版图 内容提要 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 按照制造器件的结构不同可以分为： 双极型：由电子和空穴这两种极性的载流子作为在有源区中运载电流的工具。 MOS型：PMOS工艺、NMOS工艺、CMOS工艺 BiCMOS集成电路：双极与MOS混合集成电路 按照MOS的栅电极的不同可以分为： 铝栅工艺、硅栅工艺（CMOS制造中的主流工艺） 按照CMOS工艺的不同可以分为： P阱工艺、N阱工艺、双阱工艺 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 一、双极集成电路工艺的基本流程 二、双极IC中的基本元器件 二、双极IC中的基本元器件 二、双极IC中的基本元器件 二、双极IC中的基本元器件 二、双极IC中的基本元器件 二、双极IC中的基本元器件 二、双极IC中的基本元器件 二、双极IC中的基本元器件 二、双极IC中的基本元器件 二、双极IC中的基本元器件 三、CMOS集成电路工艺流程 三、CMOS集成电路工艺流程 三、CMOS集成电路工艺流程 三、CMOS集成电路工艺流程 三、CMOS集成电路工艺流程 三、CMOS集成电路工艺流程 三、CMOS集成电路工艺流程 三、CMOS集成电路工艺流程 三、CMOS集成电路工艺流程 版图分层处理方法 版图的层 四、集成电路版图设计规则 加工过程中的非理想因素 制版光刻的分辨率问题 多层版的套准问题 表面不平整问题 流水中的扩散和刻蚀问题 梯度效应 解决办法 厂家提供的设计规则(topological design rule)，确保完成设计功能和一定的芯片成品率，除个别情况外，设计者必须遵循 设计者的设计准则(‘rule’ for performance)，用以提高电路的某些性能，如匹配，抗干扰，速度等 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 上华0.6um DPDM CMOS工艺设计规则 Nwell 四、集成电路版图设计规则 Active 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 四、集成电路版图设计规则 集成电路计算机辅助设计 IC版图设计工具L-Edit 微电子学院 高海霞 Email: hxgao@mail.xidian.edu.cn 工艺流程与版图流程的对照 工艺流程与版图流程的对照 工艺流程与版图流程的对照 工艺流程与版图流程的对照 工艺流程与版图流程的对照 工艺流程与版图流程的对照 工艺流程与版图流程的对照 Tanner集成电路设计工具简介 L-Edit版图编辑器的用户界面 L-Edit版图编辑器的用户界面 L-Edit版图编辑器的用户界面 L-Edit版图编辑器的用户界面 使用L-Edit进行版图设计的参考步骤 版图绘制 演示1 演示内容： 1、L-Edit用户界面介绍 2、设置L-Edit版图编辑器窗口 3、创建文件 4、版图绘制的基本操作 L-Edit版图设计工具的特点 设计的等级构造 绘图对象 例化体 例化体 例化体 演示2 DRC设计规则检查 DRC设计规则检查 版图的提取 LVS LVS CIF、GDSII简介 演示3 Cadence EDA软件简介 Cadence的启动 在命令行中键入命令icfb调出Cadence软件。 库的建立 文件的建立 Create Layout View Edit Layout Set