沉积温度对磁控溅射镀钌薄膜微观结构和附着力的影响.pdf

第 卷第 期 武 汉 科 技 大 学 学 报 , 40 1 Vol.40No.1 年 月 2017 2 JournalofWuhanUniversitofScienceandTechnolo Feb.2017 y gy 췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍췍 : / DOI10.3969 .issn.1674-3644.2017.01.005 j 沉积温度对磁控溅射镀钌薄膜微观结构 和附着力的影响 , , , , 王 盼 潘应君 洪 波 徐源源 杨 林 ( , , ) 武汉科技大学材料与冶金学院 湖北 武汉 430081 : , 、 、 、 摘要 采用中频磁控溅射技术在钼圆片表面镀覆钌薄膜 通过 射线衍射仪 扫描电镜 平整度仪 宏观浸蚀 X , 。 , 试验和百格测试等对镀层进行表征和检测 研究不同沉积温度对薄膜微观结构和附着力的影响 结果表明 , , ; 随着沉积温度由室温升至 200℃ 钌薄膜的表面平整性和致密性逐步改善 附着力得以提高 200℃沉积薄膜 / , 、 ; , 的膜 基结合力最大 其微观结构 致密性等也均达到最优 但当沉积温度进一步提高到300℃时 钌薄膜的表 , 。 面起伏反而增大 附着力有所下降 : ; ; ; ; ; ; 关键词 钌薄膜 钼基片 磁控溅射 镀膜 沉积温度 附着力 微观结构 中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( ) TG174.444 A 1674-3644201701-0023-04 、 、 : , 。 , 钼因具有高熔点 高强度 高硬度以及良好的 规格为 直径 24mm 厚度 2mm 靶材为钌靶 导电性和耐磨性等优异性能而被广泛应用于晶闸 纯度为 99.99%。镀膜设备为北京泰科诺科技有 [] 1 、 , 管 半导体的核心配件 它能极大提高电子器件 限公司生产的TSU-650型多功能镀膜机。 。 , 的使用寿命 但是钼的高温抗氧化性能很差 钼 镀膜前先将钼基片置于浓双氧水中氧化表