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国内外磁控溅射靶材的现状及发展趋势
第39卷第4期 金属材料与冶金工程 V01．39No．4
2011年8月 METALMATERIALSAND 201l
METALLURGYENGINEERING
Aug
国内外磁控溅射靶材的现状及发展趋势术
储志强
(湖南省冶金材料研究所，湖南 长沙410014)
摘 要：近年来，随着磁控溅射技术的应用Et趋广泛。对各种高纯金属及合金靶材的需求也愈来愈大。
据此。介绍了磁控溅射靶材的种类、应用及制备情况，指出了目前靶材亟待解决的几个重大问题，并对靶
材的发展趋势进行了探讨和展望。
关键词：磁控溅射；靶材；现状；发展趋势
中图分类号：TNl04．1文献标识码：A 文章编号：1005—6084(2011)04—0044—06
ThePresentStatusand Trendof
DevelopmentMagnetron
atHomeandAbroad
SputteringTarget
CHU
Zhi—qiang
ResearchInstitute and
(Hunan of Materials，
Metallurgy
ABSTRACT：Inrecent and ofthe
step
year，with stepwidely magnetronsputtering
technique demandsonhighpurity materialsaremoleand
application，the sputteringtarget
more viewofthe and situationof
above，the
great．In classification，applicationpreparation
the materialsare several about
described，the
magnetronsputteringtarget importantquestions
are
materialswhichhavetoberesolvedatmoment the
sputteringtarget pointedout，moreover
trendof materialsdiscussedand
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