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第 卷 第 期 中 国 表 面 工 程 28 2 Vol.28 No.2           年 月 2015 4 CHINASURFACEENGINEERING A ril 2015 p : / doi10.11933 .issn2015.02.014 j 犜犉犜 犔犆犇玻璃基板精细雾化抛光的工艺参数优化 莫益栋,李庆忠 (江南大学 机械工程学院,江苏 无锡 214122) 摘 要:为了研究抛光工艺参数(抛光压力、抛光台转速、抛光液流量)对精细雾化抛光TFT LCD玻璃基板的影响,实   现对玻璃基板的高效、高质量加工,采用正交试验方法对玻璃基板进行雾化抛光,以材料去除率(MRR)和表面粗糙度 ( )为评价指标,根据实验结果得到最优的工艺参数组合,并将传统抛光和雾化抛光进行了对比。结果表明:当压力为 犚a ,抛光台转速为 / ,抛光液流量为 / 时,雾化抛光的材料去除率为 / ,表面粗糙度 0.055MPa 65rmin 8.3mLmin 219nm min 犚a 为 ,光学透过率 。在相同的试验条件下,传统抛光的去除率和表面粗糙度分别为 / 和 , 1.1nm ≥92.6% 335nm min 1.2nm 两种方法的抛光效果相近,但雾化方法抛光液用量仅为传统的 / 。 110 关键词:化学机械抛光;玻璃基板;精细雾化;正交试验 中图分类号: 文献标志码: 文章编号: ( ) TG175 A 10079289201502012105           犗 狋犻犿犻狕犻狀 犘狉狅犮犲狊狊犘犪狉犪犿犲狋犲狉狊狅犳犝犾狋狉犪狊狅狌狀犱犉犻狀犲犃狋狅犿犻狕犪狋犻狅狀犆犕犘狅狀 狆 犵 犜犉犜 犔犆犇犌犾犪狊狊犛狌犫狊狋狉犪狋犲 , MOYidon LIQin zhon g g g ( , , , ) ColleeofMechanicalEnineerin JiannanUniversit Wuxi214122 Jiansu g g g g y g 犃犫狊狋狉犪犮狋: , Toinvestiatetheinfluenceofthe olishin ressure therotatin seedofthe olishin adandtheflow g p gp g p p gp

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