TargetSystem摘要.PDF

TargetSystem 双激光测量系统 对可见目标与 隐藏目标均可进行 自动目标试样制备 的系统 系统模块化、可升级 配备TargetDoser加料装置的TargetMaster微抛光系统 - 用于制备任何可见或隐藏目标试样，如微小裂缝、夹杂物和 孔隙、氧化层、涂层等 - 自动制备、清洗和测量 - 已镶或未镶试样的横截面磨削与平行抛光 TargetX选配项用于隐藏目标 - 实时对准可见（外部）和隐藏（内部）目标 - 机载双激光测量系统*提供 ±5 μm系统精度 - IPS——智能制备系统 IPS数据库，提供研磨和抛光表面的磨削率 自动重算磨削率和时间 - 低操作成本 可以使用任何SiC砂纸，或任何其它耗材 TargetZ选配项用于可见目标 您的获益： - 不丢失试样 - 大幅缩短制备时间（ 30 min.） - 对使用者无技能依赖 - 制备结果完全可再现 - 无需使用昂贵的研磨膜 *)国际专利未决。美国专利号 7014531 系统组件 得益于± 5 μm的系统精度， TargetSystem的核心是TargetMaster ， TargetSystem极其适用于研发 这是一台200 mm的微抛光系 部门或失效分析（FA）实验室 统，配备封闭式抛光室，可 进行目标试样制备或其它高精 保障制备质量和使用者的 度的试样制备。其典型应用领 安全。 域为各类需要对特定区域进行检 查的部件，如微电子元器件、分 初始制样步骤中的 层剥离或失效件等。可根据需要 磨削量由一个电 对系统的各个组件采用若干种方 子测量系统控制， 式组合。 其可快速接近目标。 接着另一个内置的激光测量系 统操纵所需的抛光步骤。TargetMaster可单机工作，也可与TargetZ或 TargetX这两个测试系统中的任一个共同工作。 TargetGrip是TargetMaster专用的一种可调角度试样夹具座。可为其配 置各类试样夹具，如用于更大试样、用于横截面磨削 05756