优化新品调试时plate-pre设置值.ppt

* / 18 变化＝生存 优化新品调试时plate-pre设置值 上海天马微电子有限公司 SHANGHAI TIANMA MICRO-ELECTRONICS CO.,LTD 姓 名：刘正 （发布人） 单 位：PHOTO 日 期：2009/9/20 优化新品调试时plate-pre设置值 8D报告名称： 1D 成 立 团 队 2D 问 题 描 述 3D 临 时 对 策 4D 原因分析及验证 5D 改善对策及验证 6D 改善实施及确认 7D 标 准 化 8D 财 务 节 余 目 录 1D 成立团队 √ 工程师 曾齐宇 √ √ 工程师 刘修文 √ 工程师 杨芳 √ 工程师 姜兴辉 √ 工程师 闫继锁 √ 工程师 吕金仪 √ 工程师 李月 √ √ leader 成为 √ √ 标准化 √ √ 改善实施 √ √ √ 工程师 周晓莲 √ √ √ 工程师 刘正 树立对策 原因分析 临时对策 各阶段分工 职位(职责) 团队成员 2D 问题描述 2.0QCIF 新品Gate层调试，1st片center shift 偏差较大，X、Y方向十字mark偏移达到21 mm 事件 Center shift偏差较大，不能建立测量recipe，增加了1pcs新品调试时间，多浪费1小时产能 影响 顾客 研发PD、PI新品组、生产部门 时间 2009.9.1 地点 Array黄光区/CDC200 3D 临时对策 2009.9.1 效果OK 2009.9.1 刘正/ 周晓莲 将首检glass返工 控制问题的影响 2009.9.1 完成日期 刘正/ 周晓莲 责任人 根据模板，调整center shift 对策 2009.9.1 调整后OK 抑制问题继续产生 实际完成日期及结果/效果 4D 原因分析及验证－鱼刺图 测量系统 环境 材料 工艺方法 设备 人 Center shift偏差较大 X2：初始recipe 设置方法 SRC对位 CDC测量光线 X1：Mask设计版图 SRC对位精度 X3：center shift 重复精度 厂务供气压力 厂务供水压力 SRC对位错误 4D 原因分析及验证－疑点排查确认（简明测试） 对于X1Mask设计版图的分析： 各款产品，可分为全对称及非对称类型。 ◆全对称情况下，center shift一般可不作调整 ◆非对称情况下，由于panel在4个shot呈非对称排布，需通过改变plate与mask的初始相对位置，从而将panel曝到正确的位置上。 另外，早期的工艺文件也没有给出1st shot时，mask中心到玻璃边缘的距离值 结论: 由于缺乏经验，早期产品PD没有给出1st shot mask中心到plate边缘距离值，此时一般将plate_pre初始设置为零；若产品为非对称，此时会造成center shift偏差较大 1st shot 483500um 343350um Center 223000um 223800um 2.0QVGA 对称排布 2.0QCIF 非对称排布 对于X2初始recipe设置方法的分析： 初始设置recipe时，一般将plate pre设置为零，因此若此时产品为非对称设计，必将造成center shift偏移较大。 对于X3center shift 重复精度的分析： 由于机械预对位精度等影响，center shift重复精度spec为100um，该影响对新品 调试时间没有太大影响 4D 原因分析及验证－疑点排查确认（简明测试） 此因素可排除 4D 原因分析及验证－5WHY分析 为什么 2.0 QCIF新品调试时center shift偏差较大？ 曝光机曝1st shot时，mask中心到plate边缘距离值与PD要求值不相等。 为什么 1st shot mask中心到plate边缘距离值与PD要求值不相等？ 一方面，早期部分工艺文件没有给出1st时mask与plate边缘的距离值；另一方面，没有找到曝光机在曝1st shot时，plate与mask相对位置的规律 为什么 初始设置recipe时plate_pre设置没有作预先调整？ 新品调试时，Plate_pre初始设置值为零；且2.0QCIF为非对称产品，即mask为非对称设计，4个shot在plate上为非对称排布。 根本原因分析 1W 2W 3W 问题 原因 为什么 PD要求的mask中心到plate长边距离并不等于365-IntervalX/2 ？ 一般