干冰微粒喷射清洗技术_郭新贺指南.pdf

加工、 测量与设备 与 显微、测量、微细加工技术 设备 Processing ， Measurement and Equipment Microscope ，Measurement ，Microfabrication Equipment 干冰微粒喷射清洗技术 ， ， 郭新贺 王 磊 景玉鹏 　 （ ， ） 中国科学院 微电子研究所 北京 １０００２９ 　 ： ， 摘要 简要介绍了随着工艺节点的缩小 传统 ＲＣＡ 清洗方法在硅片清洗工艺中的局限性和弊 ， 。 ， 端 进而提出了以 ＣＯ 为介质的新型干冰微粒喷射清洗方法 从 ＣＯ 的物理特性出发 论述了 ２ ２ ， ＣＯ 流经喷枪后形成干冰微粒的机理 并简要分析了干冰微粒喷射技术对颗粒污染物和有机污 ２ 。 ， 染物的清洗机理 在此基础上 介绍了自主研发的一台基于干冰微粒喷射技术的半导体清洗设 ， ， 备 对该设备的结构和各部分的作用作了简要介绍 论述了使用该设备对硅片进行清洗的工艺流 。 ， 、 ， 程 通过对比实验发现 采用压强为 ８ＭＰａ 纯度为 ５Ｎ的ＣＯ 作为气源 喷嘴前压强设置为 　 ２ ，使用该设备可以达到很好的清洗效果。 １１ＭＰａ 　 ： ； ； ； ； 关键词 ＲＣＡ 清洗 硅片清洗 ＣＯ 干冰微粒喷射 清洗设备 ２ 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） ＴＮ３０５．９７ Ａ １６７１－４７７６ ２０１２ ０４－０２５８－０５ 　 　 ＣａｒｂｏｎＤｉｏｘｉｄｅＳｎｏｗＪｅｔＣｌｅａｎｉｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏ 　 　 　 　 ｇ ｇｙ 　 ， ， ＧｕｏＸｉｎｈｅ Ｗａｎ Ｌｅｉ Ｊｉｎ Ｙｕ ｅｎ 　 ｇ ｇ ｐ ｇ