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用于微测辐射热探测器的纳米VO2薄膜.pdf
第21卷 第6期 材 料 研 究 学 报 Vl01．21 NO．6
2 0 0 7年12月 CHINESE J0URNAL OF MATERIALS RESEARCH December 2 0 0 7
用于微测辐射热探测器的纳米VO2薄膜
何少伟 ，。 黄鹰 ，。 戴 君 ，。 赖建军 ，。 王兴治 易新建 ，s
1．华中科技大学光电子科学与工程学院 武汉430074
2．国家光电实验室 武汉430074
3．华中科技大学图像处理和智能控制教育部重点实验室 武汉430074
摘 要 用离子束溅射和后退火工艺制备了一种适用于微测辐射热探测器热敏材料的新型纳米结构二氧化钒 (VO2)薄膜材料，
薄膜具有平均粒度8 am，在半导体相区具有电阻温度系数(TCR)为一7％／K，性能高于传统的V02材料(平均粒度为1—2
ttm，在半导体相区具有TCR约为一2％／K)．基于纳米结构的V02薄膜材料的器件比基于传统的V02薄膜材料具有更高的
性能，而两者的噪声基本相当．
关键词 无机非金属材料，纳米二氧化钒薄膜，非致冷红外探测器，电阻温度系数(TCR)
分类号 TB321 文章编号 1005．3093(2007)06-0609．04
Nanostructure V02 thin films for microbolometer
HE Shaowei ·。 HUANG Ying ·。 DAI Jun ·。 LAI Jianjun ·。
WANG Xingzhi YI Xinjian ·。
1．Schoof of Optoelectronics Science and Engineering．Huazhong University of Science＆ Technology． uhan 430074
2．TheⅣational Laboratory for Optoelectronics． han 4300
． e Key Laboratory of Education Ministry for Imaging Recognization and Intelligence Cont~1．
Huazhong University of science and Technology． uhan 30074
Supported by National Nature Science Foundation of China NO
Manuscript received February 12，2007；in revised form July 6，2007．
$ To whom correspondence should be addressed．Tel：(027E-maihyxj414415@163．com
ABSTRACT A new nanostructure VO2 thin f¨m suitable for microbolometer heat．sensitive material
was fabricated through reaction—ion sputtering and post—annealing process．An average grain size of 8nm
and temperature coefficient of resistance(TCR)of一7％／K in semiconducting phase region i5 obtained．
However．the average grain size for conventional microstructure VO2 i5 1-2 m．the TCR i
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