电子技术基础(模拟部分)第五章.ppt

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电子技术基础(模拟部分)第五章

5.2.1 MOSFET放大电路 2. 图解分析 由于负载开路,交流负载线与直流负载线相同 5.2.1 MOSFET放大电路 3. 小信号模型分析 (1)模型 静态值 (直流) 动态值 (交流) 非线性失真项 当,vgs 2(VGSQ- VT )时, 5.2.1 MOSFET放大电路 3. 小信号模型分析 (1)模型 ??0时 高频小信号模型 3. 小信号模型分析 解:例5.2.2的直流分析已求得: (2)放大电路分析(例5.2.5) s 3. 小信号模型分析 (2)放大电路分析(例5.2.5) s 3. 小信号模型分析 (2)放大电路分析(例5.2.6) 共漏 3. 小信号模型分析 (2)放大电路分析 5.3 结型场效应管 5.3.1 JFET的结构和工作原理 5.3.2 JFET的特性曲线及参数 5.3.3 JFET放大电路的小信号模型分析法 5.3.1 JFET的结构和工作原理 1. 结构 N 沟道 JFET P 沟道 JFET 漏极 源极 栅极 结型场效应管结构动画演示 2. 工作原理(以N沟道为例) 正常工作条件(N沟道): 栅—源之间加负向电压(vGS0),以保证耗尽层承受反向电压。 漏—源之间加正向电压( vDS0 ),以形成漏极电流 iD。 场效应管通过栅—源电压vGS和漏—源电压vDS对导电沟道的影响来实现对iD的控制,从而实现其放大(控制)的功能。 5.3.1 JFET的结构和工作原理 s 5.3.1 JFET的结构和工作原理 N g d uGS 工作原理: 当vDS=0(d、s短路)时,vGS对导电沟道的控制作用 P P s vDS=0且vGS=0,耗尽层很窄,导电沟道很宽。 |vGS|增大时,耗尽层加宽,沟道变窄,沟道电阻增大。 |vGS|增大到某一数值时,耗尽层闭合,沟道消失,沟道电阻趋于无穷大,称此时vGS的值为夹断电压UGS(off)。 5.3.1 JFET的结构和工作原理 N g d uGS s uDS 当vGS为某一固定值(VT ~0 )时,vDS对漏极电流iD的影响。 P P vGS为某一固定值(VT ~0 ),存在由vGS所确定的一定宽度的沟道。若vDS=0,此时由于d—s间电压为零,沟道中的载流子不会产生定向移动,故电流iD=0。 若vDS0,则有电流iD从漏极流向源极,此时沟道中各点与栅极间的电压不等(从源极到漏极逐渐增大),耗尽层宽度不一(沟道上窄下宽,呈楔型)。 N g d uGS s uDS P P 由于栅—漏电压vGD=vGS-vDS,所以的当vDS从零逐渐增大时,vGD逐渐减小,靠近漏极一侧的导电沟道必将随之变窄。但只要栅—漏间不出现夹断区域,沟道电阻仍取决于栅—源电压(vGS),故电流iD将随vDS的变化近似线性变化。 一旦vDS的增大使vGD=VT,则漏极一边的耗尽层就会出现夹断区,称vGD=VT为预夹断。 5.3.1 JFET的结构和工作原理 5.3.1 JFET的结构和工作原理 N g d uGS s uDS P P 预夹断后,若vDS继续增大,vGDVT,耗尽层闭合部分将沿沟道方向延伸,夹断区加长。 一方面,自由电子从源极向漏极定向移动所受阻力加大(从夹断区窄缝高速通过),从而导致iD减小; 另一方面,随着vDS的增大,d—s间的电场增强,使iD增大。 二者变化趋势相互抵消,在预夹断后,vDS增大,iD近似不变,即iD仅仅取决于vGS,表现出iD的恒流特性。 当vGDVT 时,vGS对漏极电流iD的控制。 在vGD=vGS-vDSVT,即vDSvGS-VT的情况下,当vDS为一常量时,对应于确定的vGS,就有确定的iD。此时通过改变vGS就可以控制iD的大小,这就是场效应管的控制作用。 场效应管控制作用体现在漏极电流受栅—源电压的控制,故场效应管为电压控制器件,体现其控制作用的参数为gm(低频跨导)。 N g d vGS s vDS P P 结型场效应管工作原理动画演示 5.3.1 JFET的结构和工作原理 小结: 在vGD=vGS - vDSVT的情况下,即当vDSvGS - VT (即g-d间未出现夹断) 时,对应于不同的vGS,d-s间等效为不同阻值的电阻; 当vDS使vGD=VT时,d-s间出现预夹断; 当vDS使vGDVT时,iD几乎仅仅决定于vGS,而与vDS无关。此时可以把iD近似看成vGS控制的电流源。 5.3.1 JFET的结构和工作原理 * */18 * * */33 * * * * * 场效应管 BJT是一种电流控制器件(iB~ iC),工作时,多数载流子和少数载流子都参与运行,所以被称为双极型器件。 场效应管(Field Effect Tra

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