石墨烯的制备PreparationofGraphene-合成化学.PDF

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石墨烯的制备PreparationofGraphene-合成化学

  2015年第23卷 合 成 化 学 Vol.23,2015    第12期,1166~1170 ChineseJournalofSyntheticChemistry No.12,1166~1170    ·研究简报 ·       石墨烯的制备 张兰芹,展晓元,王 杰,张智慧,徐国纲 (山东科技大学 材料科学与工程学院,山东 青岛 266590) 摘要:以球形石墨为原料,HClO 为插层剂,KClO 为氧化剂,采用高温(1050℃)氧化还原法制备了石墨烯 4 3 (GN),其结构和性能经FTIR,XRD,SEM,TEM,BET和RS等表征。研究了KClO 的加入量对GN结构和性 3 -1 2 -1 能的影响,结果表明:当KClO 的加入量为0.08g·mL 时,所制备的GN的比表面积为558m ·g ,平均孔 3 径为3.012nm,电阻率为0.02 ·cm。 Ω 关 键 词:氧化石墨;石墨烯;氧化还原;制备;导电性能 中图分类号:O613.71 文献标识码:A DOI:10.15952/j.cnki.cjsc.1005-1511.2015.12.1166 PreparationofGraphene ZHANGLanqin, ZHANXiaoyuan, WANGJie, ZHANGZhihui, XUGuogang (CollegeofMaterialsScienceandEngineering,ShandongUniversityofScienceandTechnology,Shandong266590,China) Abstract:Graphene(GN)waspreparedbyhightemperature(1050℃)oxidationreductionmethod, usingsphericalgraphiteasrawmaterials,HClOasintercalatorandKClOasoxidant.Thestructure 4 3 andpropertieswerecharacterizedbyFTIR,XRD,SEM,TEM,BETandRS.EffectofKClO 3 addingamountonthestructureandperformanceofGNwereinvestigated.WhenthedosageofKClO 3 -1 2 -1 is0.08g·mL ,GNhavebestperformancethatthesurfacearea

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