衬底温度对直接光EFGHIJK薄膜特性的影响.PDF

年 月 !**! # ’(!**! +,-)./.0123)4516/.7-+1)82+913/ 4:; 衬底温度对直接光 K 薄膜特性的影响 EFG HIJ = ! = 刘玉荣 杜开瑛 李观启 华南理工大学应用物理系 广州 L= ( B=*?@*M 四川大学物理系 成都 L! ( ?=**?@M 摘要 采用以低压氙 气激发真空紫外光作光源 以 和 作反应气体的直接光 技术淀积 薄膜 N L M ( @ ! ! ’ OP /Q, 1 +$8 /Q1 通过椭圆偏振法 红外光谱法 特性法对不同衬底温度下淀积的 薄膜的特性进行研究 结果表明 衬底温 R R A ! ’ N S T /Q1 度在 范围内 薄膜的折射率在 之间 在沉积膜的红外光谱中未出现与 X R X 相对 @*U !**V ( =W@*U =W@? ( /Q , /Q 1, 应的红外吸收峰 薄膜中固定氧化物电荷密度受衬底温度影响较大 其最小值可达 =* \! ’ ! ( =WYZ=* ’ /Q1 D[ 关键词 直接光 薄膜 特性 N ] ! ] A +$8 /Q1 S T N*Y!* ]?#BB]#==B ^_EE 7 , 中图分类号N9)*@W*BB 文献标识码N4 文章编号N*!BA@=YYL!**!M*#A*#!BA*B 作为反应气体的$2$ 光直接光 +$8 技术淀积 引言 膜 通过椭圆偏振法 红外光谱法 特性法 ’ R R A /Q1 S T ‘ ! 对沉积 膜的特性进行研究 重点讨论衬底温度 /Q1