NexION 300S ICP-MS测定半导体级TMAH中的杂质.PDF

应 用 文 章 ICP-Mass Spectrometry 作者 Kenneth Ong Perk inElmer, Inc. Singapore Nex ION 300S 前言 四甲基氢氧化铵 （ ）是一种广泛用于半导 ICP-MS测定半导体 T MA H 体光刻工艺和液晶显示器 （ ）生产中形成酸 级TMA H 中的杂质 LCD 性光阻的基本溶剂。由于其在此类高要求应用中 的广泛使用，使得对T MA H纯度的检测变得越来 越重要。SEMI标准C46-0306 1规定浓度为25%的T MA H溶液中各元素污染物限量低 于100ppb。然而，通常使用的都不是TMAH 的浓溶液，实际上使用的TMAH溶液浓 度绝大多数都在1-3%之间。 由于具有快速测定各种工艺化学品中超痕量浓度 （ 或 万亿分之）待测元素的能 ng/ L 力，电感耦合等离子体质谱仪 （ ）已成为了质量控制不可缺少的分析工具。 ICP-MS 然而，解决由基体带来的多原子干扰和由于含有碳造成的基体抑制效应是非常重要 的。在直接分析有机溶剂时这些问题就显得尤为突出。虽然低温等离子体已经被证 明能够有效减少氩干扰，但却比高温等离子体更容易造成基体抑制。此外，较低的 等离子体能量可能会生成其他一些未曾在高温等离子体条件下观察到的多原子干 扰。使用多极和非反应气体的碰撞池已被证明可以有效减少多原子干扰。但是动能 歧视将会造成灵敏度的下降，这将严重制约对ng/ L浓度水平物质的分析。反应模式 备，得到浓度为 （ ）的溶液。标准溶液使用浓度 是一种使用反应气体 （如 ）与多原子干扰物进行选 5% W/W NH 3 为 的多元素标准 （ ，珀金埃尔默 择性反应，并通过四级杆质量过滤器建立动态带通，防 10 mg/ L PerkinElmer Pure 止其他副产物生成，从而在不抑制待测元素信号的基础 公司，美国康涅狄格州谢尔顿）配制。实验使用的仪器为 上有效消除多原子干扰的反应模式。 NexION 300S ICP-MS （珀金埃尔默公司，美