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W 掺杂VO2 薄膜的椭圆偏振光谱表征 - 中国建筑材料联合会.PDF

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W 掺杂VO2 薄膜的椭圆偏振光谱表征 - 中国建筑材料联合会

44 3 Vol.44 No.3 第 卷第 期 硅 酸 盐 学 报 , 2016 3 March 2016 年 月 JOURNALOFTHECHINESECERAMICSOCIETY , DOI:10.14062/j.issn.0454-5648.2016.03.19 W掺杂VO 薄膜的椭圆偏振光谱表征 2 王盼盼,张云龙,吴岭南,曹韫真,宋力昕,章俞之 (中国科学院上海硅酸盐研究所,中国科学院特种无机涂层重点实验室,上海 201800) MSP-3200 (M )VO W 摘 要:利用 三靶共溅射镀膜机,射频磁控溅射在石英基底上反应溅射制备单斜相 相 2薄膜及 掺杂单斜 (M )VO WVASE32 350 2500nm VO W 相 相 2 薄膜。利用 椭圆偏振仪及变温附件在 ~ 波长范围内对相变前后的 2 薄膜及 掺杂 VO Lorentz W VO 2 薄膜进行光谱测试,运用 谐振子色散模型结合有效介质近似模型对椭偏参数进行拟合。结果表明: 掺杂的 2 VO n k W VO n VO 薄膜与纯相的 2 薄膜相比,光学常数 、 随波长的变化趋势相同,但 掺杂后的 2 薄膜的折射率 小于纯相 2 薄 k VO k W 膜的折射率,而消光系数 值大于纯相 2薄膜的 值。 的掺入,增加了薄膜的致密度,同时增加了薄膜内部自由载流子 的浓度。 关键词:氧化钒薄膜;相变;椭圆偏振光谱;光学常数 中图分类号:TB43 文献标志码:A 文章编号:0454–5648(2016)03–0464–05 网络出版时间: 网络出版地址: SpectroscopicEllipsometryCharacterizationofTungsten-dopedVanadiumOxideFilms WANG Panpan,ZHANG Yunlong,WU Lingnan,CAO Yunzhen,SONG Lixin,ZHANG Yuzhi (ShanghaiinstituteofCeramicsChineseAcademyofSciences,Shanghai201800,China) Abstract:Themonoclinicphase(Mphase)VO filmandW-dopedMphaseVO filmwerepreparedonquartzsu

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