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维普资讯 一一敲测黼发身五，堑吴lJ一I￡㈣缔睇协翱微踊黼等一一 质 用 高纯试剂过氧 化氢、双氧水、硝酸、盐酸和氢氟酸 中的 17种杂质元素的含量 。采用络合剂和富集技术 ，研究 了降低 空 白和 降低桂测 限的措施 ，桂测限均达到 ×10一。 LS~C，，儿 C DeterminationofTraceImpuritiesinfiveKindsof High—purityReagentbyEmissionSpectrom etry 试 WangChunmei，WuQlong，ZhangShuzhen，ZhuChunfu 弃 争 眦 (The46thInstituteofElectricMinistry．Tiawin300192) Abstract Twokindsofatomicemission spectrometerwereusedtodetermine 17 金 蝽朱唁 嘴盯 elementsin 5kindsofhigh—purityreagents． Complexingreagentandenricamem tech niqvewereadopted．Experimentalconditionswerestudied．Therecoveriesshowedgood accuracy· K存eywords PeroxideKHydrofluoricacid Nitricacid Emissionspectometry 必须在国内现有的仪器条件下研究 出一套分析 l l 言 高纯试剂中杂质元素的分析法 。为此采用 ICP 盐酸、硝酸、氢氟酸、无水乙醇 、双氧水 发射光谱和交流 电弧发射光谱分别对 5种高纯 等 高纯试剂是 当前 国内用于大规模集成 电路 试剂 中的 17种杂质元素 的测定进行 了研究 。 (LSIC)和超大规模集成电路 (VLSIC)制造工 2 实验部分 艺 中清洗剂和腐蚀剂的重要辅助材料 。在这些 高纯试剂中，金属、非金属杂质含量的高低是 2．1 试剂和标准溶液 影响 LSIC、VLSIC产品质量的一个很重要 的 二次去离子水加甘露醇后用石英精馏塔精 因素。国外有关研究各种超高纯试剂中杂质测 馏提纯；盐酸采用等温扩散法提纯 ；硝酸、乙 试的报道很多 ，国内也有不少专家做过这 酸乙酯采用石英蒸馏器二次蒸馏提纯 ；氢氟酸 方面的工作 ]但是国内测定元 素的数量还不 采用铂蒸馏器二次蒸馏提纯 ；甘露醇采用重结 能满足集成电路工艺过程的要求，而国外所l采 晶提纯 。 用的IcP一质谱在我们国家还很不普及，所以 所有杂质浓度分别为 10、3、1、0．3、0．1、 半导体柱术 1998丰 10月弟23喜第 5期 47 维普资讯 0．03、0．01p-g／mL，每个溶液均吉有 0．3p-g／mL 电弧发射光谱分析 。 的镀 ，200,ug／mL的氯化钠 ，1 的甘露醇水溶 2．4 试验方法 液 (对于等离子体光谱用标准溶液则不吉铍 、氯 24．1 盐酸、硝酸、氢氟酸、过氧化氢 化钠和甘露