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成像级n!e0中红外波片的表面处理工艺研究 - 影像科学与光化学
第 卷 第 期 影 像 科 学 与光 化 学
年 月
论 文 影像获取与信息系统专刊
成像级 中红外波片的表面处理工艺研究
杨 辉 张志勇 冯志伟 熊祝韵 曾体贤
西华师范大学 物理与空间科学学院四川 南充
中国科学院 国家天文台北京
中国科学院太阳活动重点实验室国家天文台北京
摘 要本文利用改进的垂直无籽晶气相升华法生长出尺寸达 的优质硒化镉
单晶体解理晶体通过 射线衍射仪测试精确的获得 晶面然后定向切割研
磨抛光获得了尺寸为 的 中红外波片初胚以弱碱性溶液与刚玉粉的
混合液作为抛光液利用化学机械抛光法对 中红外波片进行表面抛光处理结果显示抛
光处理有效的减少了波片表面的损伤层划痕及结构缺陷晶片表面的粗糙度降低在
波段透过率较高达到满足中红外波片的应用需求
硒化镉晶体中红外波片化学机械抛光
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文章编号
晶体是性能优异的红外
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