UV-LIGA与微细电火花加工组合制造微细电解阵列电极.pdfVIP

第４０卷第１期 东南大学学报（自然科学版） Ｖｏｌ．４０ Ｎｏ．１ 　 ２０１０年１月 ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＳＯＵＴＨＥＡＳＴＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ（ＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅＥｄｉｔｉｏｎ） 　 Ｊａｎ．２０１０ ｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１００１－０５０５．２０１０．０１．０２０ ＵＶＬＩＧＡ与微细电火花加工组合制造微细电解阵列电极 胡洋洋　 朱　荻　 李寒松　曾永彬　明平美 （南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室，南京２１００１６） 摘要：采用ＵＶＬＩＧＡ与微细电火花加工组合技术制造大长径比微细阵列电极．先通过ＵＶＬＩ ＧＡ技术制作微细群孔工具电极，然后通过电火花套料加工制作大长径比微细阵列电极．选取优 化的工艺参数：前烘１１０℃保持１２ｈ；三步后烘５０℃保持５ｍｉｎ、７０℃保持１０ｍｉｎ、９０℃保持３０ ｍｉｎ；采用谐振式电火花电源，电压２００Ｖ、峰值电流１５Ａ、脉宽３２ ｓ、脉间６４ ｓ、放电间隙１２ μ μ ｍ等，制备了直径８５ ｍ、长１．５ｍｍ，长径比达１７６５的微细阵列电极．最后用制作出的微细阵 μ μ 列电极作为工具电极进行微细电解加工实验，在１２０ ｍ厚不锈钢板上电解加工出直径１５０ ｍ、 μ μ 形状均匀的微细阵列群孔结构．实验证明：ＵＶＬＩＧＡ与微细电加工组合制造技术是一种可行的 制作高深宽比微结构的方法；利用微细阵列电极进行电解加工，能实现高效和高精度加工． 关键词：ＵＶＬＩＧＡ；微细电火花加工；微细电解加工；组合加工 中图分类号：ＴＧ６６１　　文献标志码：Ａ　　文章编号：１００１－０５０５（２０１０）０１０１０６０５ ＦａｂｒｉｃａｔｉｏｎｏｆｍｉｃｒｏＥＣＭｅｌｅｃｔｒｏｄｅａｒｒａｙｂｙｃｏｍｂｉｎｉｎｇＵＶＬＩＧＡ ｗｉｔｈｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｄｉｓｃｈａｒｇｅｍａｃｈｉｎｉｎｇ ＨｕＹａｎｇｙａｎｇ　 ＺｈｕＤｉ　ＬｉＨａｎｓｏｎｇ　 ＺｅｎｇＹｏｎｇｂｉｎ　ＭｉｎｇＰｉｎｇｍｅｉ （ＪｉａｎｇｓｕＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＰｒｅｃｉｓｉｏｎａｎｄＭｉｃｒｏＭａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ， ＮａｎｊｉｎｇＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＡｅｒｏｎａｕｔｉｃｓａｎｄＡｓｔｒｏｎａｕｔｉｃｓ，Ｎａｎｊｉｎｇ２１００１６，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＴｈｅｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｏｆＵＶＬＩＧＡ（ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｅｇａｌｖａｎｏｆｏｒｍｕｎｇａｎｄａｂｆｏｒｍｕｎｇ） ｗｉｔｈｔｈｅｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｄｉｓｃｈａｒｇｅｍａｃｈｉｎｉｎｇ（ｍｉｃｒｏＥＤＭ）ｐｒｏｃｅｓｓｗａｓａｄｏｐｔｅｄｔｏｆａｂｒｉｃａｔｅｈｉｇｈａｓ ｐｅｃｔｒａｔｉｏｅｌｅｃｔｒｏｄｅａｒｒａｙ．Ｆｉｒｓｔ，ｍｉｃｒｏｈｏｌｅａｒｒａｙｗａｓｆａｂｒｉｃａｔｅｄｔｈｒｏｕｇｈｔｈｅＵＶＬＩＧＡｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ， ｔｈｅｎｔｈｅｅｌｅｃｔｒｏｄｅａｒｒａｙｗａｓｆａｂｒｉｃａｔｅｄｂｙｔｈｅｍｉｃｒｏＥＤＭ．Ｕｓｉｎｇｔｈｅｏｐｔｉｍｉｚｅｄｐａｒａｍｅｔｅｒｓ：ｓｏｆｔ ｂａｋｅａｔ１１０℃ｆｏｒ１２ｈ；ｐｏｓｔｂａｋｅａｔ５０℃ｆｏｒ５ｍｉｎ，７０℃ｆｏｒ１０ｍｉｎａｎｄ９０℃ｆｏｒ３０ｍｉｎ；ｒｅｓｏ ｎａｎｔＥＤＭｐｏｗｅｒｓｕｐｐｌｙｏｆ２００Ｖｖｏｌｔａｇｅ，１５Ａｐｅａｋｃｕｒｒｅｎｔ，３２ ｓｐｕｌｓｅｗｉｄｔｈ，６４ ｓｉｎｔｅｒ μ μ ｐｕｌｓｅ，ａｎｄ１２ ｍｄｉｓｃｈａｒｇ