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财团法人国家实验研究院国家奈米元件实验室 national nano
財團法人國家實驗研究院
國家奈米元件實驗室
化學機械研磨設備機組之純水二次配管工程
招標規範書
目錄 頁次
ㄧ. 說明 3
二. 工作範圍及驗收標準 3
三. 保固 6
四. 施工注意事項 6
五. 投標注意事項 9
六. 履約期限 10
七. 附件 10
說明:
本規範適用財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室之實驗棟3F C/R10K級化學機械研磨設備(以下簡稱New CMP)機組之純水二次配管工程之安裝、水質測試、驗收等之基本要求。工程範圍如下。
工作範圍及驗收標準:
2.1施工地點：
本規範適用實驗棟3F C/R10K級New CMP裝機之純水二次配管工程，由sub fab區域純水預留閥銜接至New CMP機組設備之二次配管工程。
2.2管路材質：
2.2.1純水配管材質
2.2.1.1管材部份為PVDF及PFA(依機台端配管需求)，主管路銜接PVDF進水管2”, 主管路銜接PVDF回水管11/2”配置。
2.2.1.2閥件部份使用ASAHI或AGRU或同等級並能符合現場管件銜接,所有五金另料為SUS 304材質。
2.3施工方式：
2.3.1純水二次配管方式
2.3.1.1每2公尺設ㄧ個support，材質SUS304；鑽孔處需有support固定。
2.3.1.2純水閥件部份進回水主管路11/2〞以上採用隔膜式閥件,管路(管材PVDF)配管以IR設備熔接方式銜接且需現場施作；管閥銜接2〞以上法蘭銜接,每組需有進回水設計。
2.3.1.3施工期間須維護周遭環境衛生，確實遵守C/R施工準則。
2.3.1.4無塵室作業需設置隔離室，以減少潔淨室污染。
2.3.1.5配管施工須穩固、防震、整齊及美觀，穿牆須做氣密或防火填塞及防滲水處理，在實驗棟3F C/R10K級及Sub Fab區施工，須遵守C/R施工準則。
2.3.1.6所有管路皆須標示名稱及流動方向，管路標示貼紙需與原主管路標示相同，且經業主檢查後方可作業。
2.3.1.7管路會影響操作及維護動線部份，承攬商須製作防護蓋板(白鐵板厚度至少0.3cm)以避免人員絆倒及管路斷裂。
2.4施工範圍：
施工範圍由Sub Fab區域純水預留閥點銜接至3F C/R10K級New CMP機組設備之純水二次配管工程。
2.4.1 銅電鍍機台+旋乾機
2.4.1.1純水二次配管工程.
純水壓力35~43Psi,流量40LPM,管徑6分x1; 4分x1
需配合搬遷時程拆、裝及支管拆除部份以管塞接頭鎖密。
2.4.2 Post-cleaner機台
2.4.2.1純水二次配管工程.
純水壓力45~55psi,管徑1/4”x1.
需配合搬遷時程拆、裝及支管拆除部份以管塞接頭鎖密。 2.4.3 Fume Hood機台
2.4.3.1純水二次配管工程.
純水壓力36~56psi,管徑1/2”x1.
需配合搬遷時程拆、裝及支管拆除部份以管塞接頭鎖密。
2.4.4 CMP機台
2.4.4.1純水二次配管工程.
純水壓力40~100Psi,流量500gph,管徑3/4”x1; 1/2”x1 .
需配合搬遷時程拆、裝及支管拆除部份以管塞接頭鎖密。
2.4.5 CMP2機台
2.4.5.1純水二次配管工程.
純水壓力40~100Psi,流量500gph,管徑3/4”x1; 1/2”x1 .
需配合搬遷時程拆、裝及支管拆除部份以管塞接頭鎖密。
2.4.6 New CMP機台
2.4.6.1純水二次配管工程.
純水壓力0.15~0.2MPa,流量50L/min,管徑3/4”NPTx2 .
2.5純水二次配管驗收標準
2.5.1純水二次配管
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