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LTPSTFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化
第 卷 第 期 液晶与显示
３１ ４
Vol．３１ No．４
ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas
年 月 q y p y
２０１６ ４ A r．２０１６
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文章编号: ( )
１００７Ｇ２７８０２０１６０４Ｇ０３６３Ｇ０７
LTPSTFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化
１ １∗ １ ２ ２ ２
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陈丽雯 叶 芸 郭太良 彭 涛 周秀峰 文 亮
( , ;
１．福州大学 物理与信息工程学院 福建 福州 ３５０００１
, )
２．厦门天马微电子有限公司 福建 厦门３６１１０１
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摘要 为了适应 LTPSTFTLCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势 降低 LTPSTFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率
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损失 提高产品品质 本文研究了LTPSTFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化 实验以干法刻蚀为主刻蚀 湿法刻蚀为
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辅刻蚀的方式 既结合干法刻蚀对侧壁剖面角及刻蚀线宽的精确控制能力 又利用了湿法刻蚀高刻蚀选择比的优良特
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性 改善了层间绝缘层刻蚀形貌 减少干法刻蚀对器件有源层的损伤 避免有源层被氧化 防止刻蚀副产物污染开孔表
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面 实验结果表明 干法辅助湿法刻蚀能基本解决刻蚀过程中过刻 残留的问题 使得层间绝缘层过孔不良良率损失减
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少 ７３％以上 且 TFT源漏电极接触电阻减小约 ９０％ 器件开态电流提升约 １５％ 干法辅助湿法刻蚀是一种优化刻蚀工
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艺 提升产品性能的新方法
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关 键 词 干法刻蚀 湿法刻蚀 层间绝缘层过孔 接触电阻 器件性能
LTPSTFTLCD
中图分类号: 文献标识码: : /
TN４３ A doi１０．３７８８YJYX０３６３
Otimizationofviaetchin rocessofLTPSTFTinterlaerdielectric
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