内表面栅极等离子体源离子注入TiN 薄膜及其特性研究! - 物理学报.PDF

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 ’ : $$# : ， ， ， FGH /’ 2G /: -IJKI=JIL $$# （ ） !$$$8#:$B$$#B’ $: B!#8$ 4D04 ,;E-.D4 -.2.D4 #$$# DM1N / ,MOP / -GC / 内表面栅极等离子体源离子注入!# 薄膜 及其特性研究! ） ） ） ） ） ））） ! ! ! ! ! ! # 张谷令 王久丽 杨武保 范松华 刘赤子 杨思泽 !）（中国科学院物理研究所，北京 !$$$%$ ） ）（厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室，厦门 #!$$’ ） # ）（三束国家重点实验室，大连理工大学，大连 !!$( ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） $$ !! ) $$# ’ 阐述了栅极增强等离子体源离子注入（ ）方法的基本思想 利用 方法在 号钢基底上生成了金黄 *+,-.. / *+,-.. (’ 色氮化钛（ ）膜 对不同条件下的 膜做电化学腐蚀， ， ， 等分析 电化学腐蚀实验显示 薄膜改 012 / 012 3,- 4+- 356 / 012 ! 善了 号钢的耐腐蚀性能 — 倍，且在高气压下效果更好 结构分析显示 膜含有 ， 成分，主要沿 (’ ’ !$ / 012 017 012 （ ）和（ ）晶向生长，深度分析显示膜的厚度只有二十几纳米，膜质地均匀且在基底有一定的嵌入深度 !!! $$ / 关键词：腐蚀，等离子体源离子注入，薄膜，氮化钛 ： ， ， $% ’)’5 %$$ %!$ 术在 号钢基底上得到金黄色的氮化钛薄膜 (’ / ! 引 言 实验原理及描述 等离子体源离子注入技术是一种具有很好应用 前景的新兴的材料处理手段，它以能非线性注入复 图 给出