反应离子刻蚀法制备石英纳米压印模板的工艺研究 - 西北工业大学学报 .pdf

2012 年 11 月 机械科学与技术 November 2012 31 11 Mechanical Science and Technology for Aerospace Engineering Vol． 31 No． 11 第 卷 第 期 反应离子刻蚀法制备石英纳米 压印模板的工艺研究 ， ， ， ， 张少峰 刘正堂 李阳平 陈海波 徐启远 ( ， 7 10072) 西北工业大学凝固技术国家重点实验室 西安 张少峰 : ， 摘 要 为了使用紫外纳米压印法制备出亚波长结构 研究了在石英衬底上采用光刻和反应离子刻 ， 。 蚀技术制备出紫外纳米压印模板 以及模板制备过程中工艺参数对光刻胶和刻蚀速率的影响 利 用激光共聚焦显微镜(LSCM)及原子力显微镜(AFM)对光刻和刻蚀图形的表面形貌进行了观察， ; ， 获得了工艺参数对光刻胶掩膜图形和刻蚀图形的影响规律 在最优工艺参数条件下 所制紫外纳米 、 ， ， 压印模板整齐 规则 并利用紫外可见近红外光谱仪对其紫外透过率进行了表征 反应离子刻蚀后 石英模板的透过率在365 nm 处仍大于90% 。 : ; ; ; ; 关 键 词 光刻 反应离子刻蚀 刻蚀速率 亚波长结构 紫外纳米压印 中图分类号:TN305. 7 文献标识码:A 文章编号:1003-8728 (20 12)11-1786-04 Preparation and Characterization of Nanoimprint Template on Quartz by Reactive Ion Etching Zhang Shaofeng ，Liu Zhengtang ，Li Yangping ，Chen Haibo ，Xu Qiyuan (State Key Laboratory of Solidification Processing ，Northwestern Polytechnical University ，Xian 7 10072) Abstract :For fabricating sub-wavelength structure by nanoimprint lithography ，the templates for ultraviolet (UV) nanoimprint lithography were prepared by the lithography and the reactive ion etching (RIE)technology on quartz substrates and the influence of the process parameters on photoresist and etching rate was investigated． The surface micrograph of the etched patterns was observed by laser scanning c