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单晶硅太阳电池钝化技术分析

摘要 摘要 表面钝化技术对提高硅太阳电池效率都起着非常重要的作用,论文介绍了 太阳电池的表面钝化制备方法,对一般半导体器件钝化和太阳电池钝化之间关 系进行了综述。 论文对氧化膜表面钝化技术进行了试验研究,包括了对掺氯氧化、低压化学 汽相沉积(LPCVD)、干氧氧化、自然氧化、物理汽相沉积(PVD)、氢氧合成氧 化和湿氧氧化等氧化钝化工艺的钝化效果进行了试验和研究分析,结果表明掺 氯氧化能达到具有最好的钝化效果,其表面复合速率在1400cm/s左右。 论文对场效应表面钝化进行了理论分析与试验研究,试验结果表明试验中 硼扩散中杂质浓度梯度形成的内建场和磷扩散形成的F/N结内建场都可以提高 硅片的表面钝化作用。 在氧化膜表面钝化方法和场效应钝化的共同作用下,磷扩散硅片的有效少 子寿命进一步提高,而硼扩散硅片由于杂质的分凝作用,硅片的有效少子寿命 急剧下降。论文最后还提出了表面钝化下一步的研究方向。 关键词:钝化;太阳电池;表面复合速率;少子寿命 Abstract Abstract was thatthe It introducedsurface is inthe passivationtechnologyapplied terrestrialsolarceilsindustries.Thesurface a role veryimportant passivationplayed in thesolarcells for thinsiliconsolarcells. improving efficiency,especiallyspace The mechanismand surface ofthe passivation typical preparationtechnologies semiconductorsurfacewerealsointroducedinthis thesis.Thesurface passivation oftraditional technology semiconductordevicesandthesurface passivation ofsolarcellshave closed surface for technology very relationship.The passivation solarcellsdemandsthatthefilmsmusthavebetter the opticalperformance,but traditionalsemiconductor haslaida on passivationtechnology strong

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