毕业论文《硅片清洗工艺的原理和现状》.doc

***********学院 课 程 设 计 题 目：硅片清洗工艺的原理和现状 专 业： 光伏材料加工与应用技术 班 级： 学生姓名： 院 　系： 光伏材料系 指导教师： 日 期： 2013年10月07日 半导体硅片清洗工艺的发展研究 【摘要】 随着大规模集成电路的发展，集成度的不断提高，线宽的不断减小，对硅片的质量要求也越来越高，特别是对硅抛光片的表面质量要求越来越严。 在硅晶体管和集成电路生产中，几乎每道工序都有硅片清洗的问题，硅片清洗的好坏对器件性能有严重的影响，处理不当，可能使全部硅片报废，做不出晶体管来，或者制造出来的器件性能低劣，稳定性和可靠性很差。因此弄清楚硅片清洗的方法，不管是对于从事硅片加工的人，还是对于从事半导体器件生产的人来说都有着重要的意义。 本文对硅片清洗的基本理论、常用工艺方法和技术进行了详细的论述，同时对一些常用的清洗方法做出了浅析，并对硅片清洗的重要性和发展前景作了简单论述。最后介绍了清洗工艺的必威体育精装版进展。 关键词: 硅片; 清洗; 工艺； 必威体育精装版发展。目录 第1章 硅片清洗工艺的原理 4 1.1 硅片清洗工艺的背景和意义 4 1.2 硅片清洗工艺的组要作用...............................................................................................4 1.3 硅片污染物杂质的分类.....................................................................................................4 1.4 硅片清洗的原理及工艺....................................................................................................4 第二章 硅片清洗工艺的现状........................................................................................................8 2.1 硅片清洗工艺的现状的背景和意义 ..............................................................................8 2.2硅片清洗工艺的发展.........................................................................................................9 2.3 硅片清洗工艺的必威体育精装版发展................................................................................................9 第三章 结束语..............................................................................................................................10第1章 硅片清洗工艺的原理 1.1 硅片清洗工艺的背景和意义 硅片的清洗很重要，它影响电池的转换效率，如器件的性能中反向电流迅速加大及器件失效等。因此硅片的清洗很重要，下面主要介绍清洗的作用和清洗的原理。 SPW（SC3） 有机物+金属 UPW（超纯水） 清 洗 DHF（稀释HF酸） 氧化层 UPW（超纯水） 清 洗