热压印光刻技术的超声波振动影响.ppt

熱壓印光刻技術的超聲波振動影響 指導老師：莊承鑫 學生:奈米四甲李庚桓 奈米四甲詹凱捷 奈米四甲鄭育叡 奈米四甲王俊傑 摘要 使用到加熱器來維持三種應力，此三種應力為負載力、熱應力、超聲波震動。 在超聲波成型過程中，在加熱器發展具有熱解石墨或熱解氮化硼。 奈米材料選擇的是聚碳酸酯在溫度150℃產生塑料玻璃轉移點。 超聲波振動的效果在尺寸越小的情況下，真的提升成型過程中的精度。 引言 奈米壓印技術由S.Y.Chou於1995年提出。 本來超聲波振動被用來紓緩在脫模的步驟（ 2004年前田和蘆田）。 超聲波奈米壓印系統的結構 採用電腦控制所有操作。 底部加壓層是一種熱塑性板可加熱到最高溫度200 ℃還能承受到了5kN的最大負荷力。 兩顆伺服馬達一個再上部加壓層控制X軸和Z軸方向，另一顆則在底部加壓層控制Y軸方向移動。 超聲波奈米壓印系統的照片和規格 內部結構 使用壓電式超聲波發生器 擁有 19千赫的頻率和大輸出功率1,200 W。 超聲波振動的振幅有10個階段設置。 超聲波振動的振幅 上部加壓層中心距離的超聲波振動的振幅的測量結果。 實驗過程 a.熱壓印光刻 b.超聲波奈米壓印 不使用超聲波振動的初步實驗 做法: 矽模 加熱溫度： 150 ℃ 加熱溫度： 180 ℃ 接觸力： 100牛頓 接觸時間： 10秒 加熱溫度為 180 ℃時 。壓印的最大高度為1.18微米，最高的寬高比為 1.06的情況下，此時最高的寬高比已下降到其原始值的五分之一。 超聲波振動時間點與接觸力的關係 高振幅超聲波 振動幅度為1.8微米（high-mode level 5） 低振幅超聲波 振動幅度為1.25微米（low-mode level 5） 低振幅的超聲振動在750nm和1μm線寬的圖形並未證實任何實質性的變化。 低振幅的超聲振動的線寬為500nm的壓印圖案的呈現上升。 結論 開發出超聲波奈米壓印系統，可以應用超聲波振動、熱應力和負載力到成型過程中。 為了克服超聲波振動，將熱解石墨/熱解氮化硼所有功能設計到加熱器裡面上裝載機械應力系統。 為了管理和操作超聲波振動準確壓印的時機，控制超聲波的振動發電裝置的方案進行了改進。 振幅超聲波振動的開始時間和超聲振動是很重要的成型條件。 在超聲振動的印象開始的情況下接觸到了矽模具上面負載之前，成型精度有所改善和壓印種類的增加。 發現壓印線寬和超聲波奈米壓印技術的振幅之間有重要關係。因此，超聲波振動援助的效果表現出對奈米領域的貢獻應用。