展阻量测分析仪使用办法-NFC奈米中心.PDF

展阻量測分析儀使用辦法 99 年 1月 25日 1.儀器規格 A. 展阻範圍： 1 ~ 1E10Ω. B. 載子濃度範圍： n-type silicon: 2E13 ~ 5E19 cm-3, p -type silicon: 2E14 ~ 7E19 cm-3. C. 最小縱深解析度： 25 nm. 2.試片限制 A. 目前僅針對 (100)及 (111)方向之Si試片進行濃度換算，其它材料僅能視狀況測量接面 深度。 B.試片表面需至少有 100 nm以上之絕緣層(SiO 或 Si N ) ，用以定義摻雜深度之起始處。 2 3 4 C. 250 nm 以下深度，視機台狀況收件。 D. 探針距離 100um 。 3. 委託服務方式 A.詳細填寫展阻量測分析儀使用申請表，包括試片結構、基材之阻值或濃度及需求條 件，連同試片送交操作人員。經操作人員確認無誤後， 排序進行分析。如有必要， 操作人員得要求申請人於分析時到場。郵寄之試片請自行負責安全與完整性。 B.請自行切試片 3X5 mm，同一樣品準備3片，供 研磨時備用。 C. 測試結果之數據以電子檔傳送，試片不再送還。 4.訓練申請 A. 碩博士班研究生且從事相關論文研究者得提出訓練申請。每位老師限指定一名學生 申請。 B. 填寫展阻量測分析儀訓練申請表，送交儀器負責人審核。 C. 審核通過後由已取得使用資格之研究生給予訓練，經具考核資格者考核通過方可自 行使用。 D. 未通過考核前如需練習，必須有具使用資格者陪同。 5.使用資格 A. 訓練考核通過者可自行操作儀器。 B. 取得使用資格者，需接受儀器負責人指揮協助儀器維護工作。 C. 連續六個月無使用記錄者，撤銷使用資格‧如欲恢復，須重新申請訓練。 D. 違反使用規則者，撤銷使用資格，不得再申請訓練。 6.使用規則 A. 尚未通過考核者禁止自行操作。 B. 量測樣品前需先量測並紀錄 QTA （約1200~2000）與 PEN （＞20000 ）測試片展阻， 超過範圍請通知技術員或儀器負責人。 C. 使用前先檢查系統狀態，包括試片研磨工具是否完整？研磨玻璃片是否乾淨？ D. 選擇適當的角座，貼試片時確定 stage乾淨並延中心線平行固定，電爐加熱勿太高溫， 黃膠會硬化清不掉，進而影響平整度。 E. 研磨時， stage鎖定基座，注意小心輕放不要損壞玻璃。 F. 使用完畢研磨玻璃片及基座需清洗乾淨，並將試片取下， stage清乾淨(ACE) 。 G.確實填寫使用記錄簿。如有異 常，必需填寫維護記錄簿並通知技術員或儀器負責人。 H. 最後使用者必須關機，所有工具清點無誤後放回定位，並將桌面整理乾淨。 7.預約方式 A. 依照貴儀中心規定，上網序號預約。 B. 送件者若需現場觀看須與操作人員先約定時間。 8. 收費辦法 學校單位 研究單位 營利事業單位 自行操作 (元/片) 2500 委託操作 (元/片) 3000 3500 4000 測量點數超過 50點每點加收 (元) 20 20 20 試片研磨費 (元/片) 500 500 500 11°32 17研磨費 (元/片) 1000 1000 1000 *現金送件者，測試完成須現場付費，外地使用者可用匯款，收到款項學校會開 可報帳之收據 。