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第五章 结型场效应晶体管 5.1 JFET的基本结构和工作过程 5.1 JFET的基本结构和工作过程 5.1 JFET的基本结构和工作过程 二、工作原理 场效应:半导体的电导率被垂直于半导体表面的电场调制的效应叫做场效应 。 5.1 JFET的基本结构和工作过程 JFET的几个突出的特点: ① JFET的电流传输主要由一种型号的载流子—多数载流子承担,不存在少数载流子的贮存效应,因此有利于达到比较高的截止频率和快的开关速度。 ② JFET是电压控制器件。它的输入电阻要比BJT的高得多,因此其输入端易于与标准的微波系统匹配,在应用电路中易于实现级间直接耦合。 ③ 由于是多子器件,因此抗辐射能力强。 ④ 与BJT及MOS工艺兼容,有利于集成。 早期的大多JFET用半导体硅材料制做,进入二十世纪九十年代,LnP、GaLnAsP等化合物半导体JFET被成功地制造出来,它们易于同GaLnAsP激光器及探测器集成在同一光电集成电路芯片上。此外,在高速GaAs数字集成电路中,用JFET代替MESFET,可以改善电路单元的一些性能并能提高芯片的电学参数的合格率。 5.2 理想JFET的I-V特性 5.2 理想JFET的I-V特性 理想的JFET基本假设及其意义 单边突变结 沟道内杂质分布均匀:无内建电场,载流子分布均匀,无扩散运动。 沟道内载流子迁移率为常数; 忽略有源区以外源、漏区以及接触上的电压降,于是沟道长度为L; 缓变沟道近似,即空间电荷区内电场沿y方向,而中性沟道内的电场只有X方向上的分量:二维问题化为一维问题。 长沟道近似:L?2(2a),于是W沿着L改变很小,看作是矩形沟道。 5.2 理想JFET的I-V特性 5.2 理想JFET的I-V特性 一、夹断前的电流-电压特性 JFET中x处耗尽层宽度为 5.2 理想JFET的I-V特性 5.2 理想JFET的I-V特性 5.2 理想JFET的I-V特性 沟道夹断与夹断电压: 在夹断点,令(5-1)式中 以及 ,可求得夹断电压: 式中 为夹断电压。常称 为内夹断电压。由式(5-6)可见,夹断电压仅由器件的材 料参数和结构参数决定,是器件的固有参数。 5.2 理想JFET的I-V特性 例题 N沟道JFET有: 以及 ? 。求:(a)夹断电压 和 ,(b)在栅极和源极两者接 地时, 的漏极电流。 解: 5.2 理想JFET的I-V特性 小结 建立了理想JFET的基本假设。 在理想JFET的基本假设的基础上导出了夹断前JFET的I-V特性方程 深入介绍了沟道夹断和夹断电压的概念。由 可见,夹断电压仅由器件的材料参数和结构参数决定,是器件的固有参数。这就是“在夹 断点夹断电压相等”一语的根据。? 5.3 静态特性 5.3 静态特性 一、线性区 令 ,(5-4)式中的第二项: 把(5-7)式代入(5-4)式并简化,得到 (5-8) 上式表明,漏极电流对漏极电压的确是线性依赖关系。(5-8)式也反映出栅 极电压对I-V曲线斜率的明显影响。 5.3 静态特性 二、饱和区 在夹断点首先发生在漏端,漏极和栅极上的偏置电压的大小满足条件 可见,夹断电压由栅电压和漏电压共同确定。对于不同的栅电压来说,为 达到夹断条件所需要的漏电压是不同的。 在图5-4?a中把(5-9)式绘成曲线,称为夹断曲线。超出夹断曲线的电流— 电压特性称为饱和区,这是由于漏极电流是饱和的。 把(5-9)式代入(5-4)式,导出饱和漏极电流 : 5.3 静态特性 (5-10)式称为JFET的转移特性,并绘于图5-5中。在图5-5中,还画出了抛 物线 式中 表示栅极电压为零(即栅源短路)时的漏极饱和电流。注意表示 在(5-11)式中的简单平方律与(5-10)式非常接近。 5.3 静态特性 实验发现,即使在y方向为任意非均匀的杂质分布,所有的转移特性都落在图 5-5中所示的两条曲线之间。在放大应用当中,通常工作在饱和区,并且在已知 栅电压信号时,可利用转移特性求得输出的漏极电流 5.6 夹断后的JFET的性能 5.6 夹断后的JFET的性能 一、沟道长度调制效应
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