双层悬空结构片状微电感研究-硬件和射频工程师.PDF

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2017-08-12 发布于天津
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双层悬空结构片状微电感研究-硬件和射频工程师

4 4 2004 12 MICROFABRICATION TECHNOLOGY Dec, 2004 : 2004) , , , ( , 200030) : 利用MEMS 工艺制作了一种双层悬空结构的圆形片状微电感, 并研究了其在S 波段的性双层微电感的底层线圈制作在玻璃衬底平面上, 外径为500 m, 匝数为2, 导线宽度70 m, 导线间距15 m, 顶层线圈的悬空高度为20 m, 顶层线圈的匝数为15, 其它结构参数与底层线圈相同研究表明, 所制作的双层结构微电感在 2 GHz~ 4 GHz 时其电感量达到22 nH, 其品质因数达到22在制作过程中首次引入的光刻胶抛光工艺大大简化了微电感的制作过程 : ; ( MEMS) ; S : TM55 : A 1 , , , MEMS , , 2 GHz~ 4 GHz Q , ( MEMS) , , , [ 1- 3] , , 2 , [ 4- 6] [7] MEMS [ 8] ; 1 100 nm Cr/ Cu ( Cr/ Cu= [9] 10 nm/ 90 nm) ; b [ 10- 11] 5 m AZP4620 , , , ; c , , : : : ( 1976- ) , , , , RF 4 : 75 5 m , ; d , 20 m, AZP4903, , : 50 1 h, 90 2 h; e , ; f , Cr/ Cu , ; g 25 m AZP4903 , , , , , , , , , 1g , , , 1h 1 MEMS , , ; i 150 nm Cu , Cu ; j Cu AZ P4620 , 5 m, ; k , ; l