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广州市世源气体有限公司广州市世源气体有限公司 广州市世源气体有限公司广州市世源气体有限公司 常用电子混合气常用电子混合气 常用电子混合气常用电子混合气 电子混合气体广泛用于大规模集成电路（L.S.I）超大规模集成电路（V.L.S.I） 和半导体器件生产 ，主要用于气相外延 （生成）、化学气相淀积、掺杂 （杂质 扩 散）、各类蚀刻和离子注入等工艺 。下面介绍几种常见的电子混合气体。 1. 1. 外延生长用混合气体 1. 1. 外延生长是一种单晶材料淀积并生产在衬底表面上的过程，在半导体工业 中，在仔细选择的衬底上选用化学气相淀积的方法，生长一层或多层材料所用的 气体叫作外延气体。常用的硅外延气体有二氯二氢硅、四氯化硅和硅烷等。主要 用于外延硅淀积，多晶硅淀积，氧化硅膜淀积，氮化硅膜淀积，太阳能电池和其 他光感器的非晶硅膜淀积等。常见外延混合气体组成列于表 1。 表 1 序 号 组 分 气 体 平 衡 气 1 硅烷 （SiH） 氦、氩、氢、氮 4 2 氯化硅 （SiCl） 氦、氩、氢、氮 4 3 二氯二氢硅 （SiHCl ） 氦、氩、氢、氮 2 2 4 乙硅烷 （SiH ） 氦、氩、氢、氮 2 6 2. 2. 蚀刻用混合气体 2. 2. 蚀刻就是将基片上无光刻胶掩蔽的加工表面 （如金属膜、氧化硅膜等）蚀刻 掉，而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来，以便在基片表面上获得所需要的成像图 形。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法化学蚀刻所用气体称为蚀刻 气体。蚀刻气体通常多为氟化物气体 （卤化物类），例如四氟化碳、三氟化氮、 三氟甲烷、六氟乙烷、全氟丙烷等。常见蚀刻气体列于表2。