彩色膜上ITO的室温沉积及其在FPD中的应用33.PDF

电 子 ·激 光 第 16 卷 第 2 期 　2005 年 2 月 Vol . 16 No . 2 　Feb . 2005 　　　　 J ou r n a l o f Opt oelect r onics ·L aser 　　　　　　　 彩色膜上 ITO 的室温沉积及其在 FPD 中的应用 1 2 1 1 1 2 2 孟志国 , 彭华君 , 吴春亚 , 李 　娟 , 熊绍珍 , 丘成峰 , 李娟娟 , 2 2 王 　文 , 郭海成 ( 1. 南开大学光电子所 ,天津 30007 1 ; 2 . 香港科技大学电机电子工程系 ,香港九龙) ( ) 摘要 :使用直流磁控溅射技术 ,在彩色膜衬底上室温制备出粘附性 良好的氧化铟锡 ITO 透明导电薄 ( ) ( ) 膜 。X 光衍射 XRD 和原子力显微 A FM 分析表明 ,室温 ITO 为多晶态 ,薄膜具有很好的透过率和 良 Ω ( ) ( ) 好的导电特性 ,方块电阻为 120 / □,对应 ITO/ 彩色膜复合膜在 450 nm 的蓝 B 光 、530 nm 的绿 G ( ) 光 、630 nm 的红 R 光处的峰值透过率均达到 85 %左右 。彩色膜与 ITO 电极的形成及联接等加工工艺 ( ) ( ) 有良好的相容性 。对该技术在彩色液晶显示 L CD 和彩色有机发光显示 OL ED 中的应用 ,进行了 探索 。 ( ) 关键词 :彩色过滤膜 ; 氧化铟锡 ITO 透明导电薄膜 ; 室温直流磁控溅射 ; 脱膜图形微细加工 ; 有机发 ( ) ( ) 光显示 OL CD