低频电子线路 半导体器件.ppt

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低频电子线路 半导体器件

* * (1) 输出特性曲线 指uGS为参变量,iD随uDS变化的关系曲线 1.4.1 结型场效应管(JFET) 3. JFET特性曲线(以NJFET为例) * 输出曲线分四区:截止区 放大区 可变电阻区 击穿区 截止区: 对应夹断状态 特点:uGS ? UGS (off) iD=0 (1) 输出特性曲线 1.4.1 结型场效应管(JFET) 截止区 * 放大区: 对应管子预夹断后的状态 特点:受控放大, iD 只受uGS控制 ?uGS ??则iD ? 放大区 输出曲线分四区:截止区 放大区 可变电阻区 击穿区 (1) 输出特性曲线 1.4.1 结型场效应管(JFET) * 可变电阻区: 对应预夹断前状态 特点: 固定uGS,uDS?则iD近似线性? -------- 电阻特性 固定uDS,变化uGS则阻值变化 --------变阻特性 输出曲线分四区:截止区 放大区 可变电阻区 击穿区 (1) 输出特性曲线 1.4.1 结型场效应管(JFET) 可变电阻区 * 击穿区: 对应PN结击穿状态 特点:uDS 很大 iD急剧增加 输出曲线分四区:截止区 放大区 可变电阻区 击穿区 (1) 输出特性曲线 1.4.1 结型场效应管(JFET) 击穿区 * 指uGS为参变量,iD随uDS变化的关系曲线 (2) 转移特性曲线 1.4.1 结型场效应管(JFET) 3. JFET特性曲线(以NJFET为例) * 预夹断后转移特性曲线重合 曲线方程 条件 (2) 转移特性曲线 1.4.1 结型场效应管(JFET) * 根据栅极绝缘材料分为: 金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET或MOS) 金属-氮化硅-半导体场效应管(MNSFET或MNS) 金属-氧化铝-半导体场效应管(MALSFET) 根据导电沟道类型分为: N沟道和P沟道 根据是否存在原始导电沟道分为:增强型和耗尽型 1.4.2 绝缘栅场效应管(IGFET) 1. 特点 ——栅极同其余电极之间绝缘 * N沟道增强型MOSFET 1.4.2绝缘栅场效应管(IGFET) 2. 结构与符号 * 导电沟道 uGS=0时,无导电沟道(夹断状态) uGS? UGS(th)时,产生导电沟道(开启状态) 定义开启电压UGS(th) 为刚开始出现导电沟道时的栅源电压数值 1.4.2 绝缘栅场效应管(IGFET) 3. 工作原理(以增强型NMOS管为例) * 受控机理:漏极电流iD 受控于uGS 通过改变加在绝缘层上的电压(栅源电压)的大小来改变导电沟道的宽度,进而改变沟道电阻的大小以达到控制漏极电流的目的,漏极电流iD 受控于uGS 。 1.4.2 绝缘栅场效应管(IGFET) 3. 工作原理(以增强型NMOS管为例) * uDS(uGS-UGS(th)) 开启状态 iD 0 uDS?iD 近似不变 uDS=(uGS-UGS(th)) 预夹断状态 uDS? iD ? uDS 影响 iD ( uGS = C ? 0 ) 1.4.2 绝缘栅场效应管(IGFET) 3. 工作原理(以增强型NMOS管为例) uDS(uGS-UGS(th)) 预夹断后 * 小结: iD 受控于uGS : uGS ? 则 iD ?直至iD =0 iD 受uDS影响 : uDS?则iD 先增随后近似不变 预夹断前uDS?则iD ? 以预夹断状态为分界线 预夹断后uDS?则iD 不变 1.4.2 绝缘栅场效应管(IGFET) 3. 工作原理(以增强型NMOS管为例) * 特别注意: 区别夹断与预夹断: 夹断时: uGS ? UGS(th) ,iD =0 预夹断时:uGD = UGS(th) (或uGS - uDS = UGS(th)) iD ?0 预夹断前:uGD UGS(th) (或uGS - uDS UGS(th) ) 预夹断后:uGD UGS(th) (或uGS - uDS UGS(th) ) 1.4.2 绝缘栅场效应管(IGFET) 3. 工作原理(以增强型NMOS管为例) * (1) 输出特性曲线 指uDS为参变量,iD随uGS变化的关系曲线

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