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天大物理化学(第五版)第十二章
1910年,古依和查普曼提出了扩散双电层理论 (2)古依-查普曼扩散双电层模型 静电力 :使反离子趋向表面 热扩散力:使反离子趋于均匀分布 总结果:反离子平衡分布 古依-查普曼模型的缺点: 1) 没有给出?电位的具体位置及意义 2) 没有考虑胶粒表面上的固定吸附层 (3) Stern双电层模型 Stern将Helmholtz模型与 Gouy-Chapman理论结合起来, 能说明电动电位与热力学电位 的区别,电解质稳定性对溶胶的 影响等问题. 紧密层:符合Helmholtz理论, 表面电势直线下降 扩散层:符合Gouy-Chapman 理论,电势呈指数型下降. 当溶液中电解质浓度增加时,介质中反离子的浓度加大,将压缩扩散层使其变薄,把更多的反离子挤进滑动面以内,使? 电势在数值上变小, ? 电势的大小,反映了胶粒带电的程度 ? 电势?,表明: 胶粒带电? ; 滑动面与溶液本体之间的电势差? ; 扩散层厚度?. ?=0时,为等电点,溶胶极易聚沉 斯特恩模型 给出了? 电势明确的物理意义,解释了溶胶的电动现象,定性地解释了电解质浓度对溶胶稳定性的影响,使人们对双电层的结构有了更深入的认识。 4. 憎液溶胶的胶团结构 例: AgNO3 + KI ?? AgI ? + KNO3 KI 过量 :AgI溶胶吸附I-带负电,K+为反离子; AgNO3过量:AgI溶胶吸附Ag+带正电,NO3-为反离子 胶团结构表示: 例:I-过量,生成带负电的胶粒,K+为反离子 胶团 {[AgI]m nI-(n-x)K+}x- ? xK+ 胶核 胶粒 负溶胶 可滑动面 胶团结构 (AgI)m I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- I- K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ K+ 特点: 1) 胶核:首先吸附过量的成核离子,然后吸附反离子; 2) 胶团整体为电中性 {[AgI]m nI-(n-x)K+}x- ? xK+ 1. 憎液溶胶的经典稳定理论??DLVO理论 §12.5 憎液溶胶的稳定与聚沉 溶胶粒子间的作用力: van der Waals 吸引力:EA ? -1/x2 双电层引起的静电斥力:ER ? ae-x? 总作用势能:E = ER + EA Emax ER EA E 势能 x 第一最小值 第二最小值 第一最小值 0 EA曲线的形状由粒子本性决定,不受电解质影响; ER曲线的形状、位置强烈地受电解质浓度的影响。 Derjaguin&Landau(1941) Verwey &Overbeek(1948) 势能 形成疏松 的聚沉物 形成结构紧 密而又稳定 的沉积物 第一最小值 第二最小值 Emax ER EA E x(粒子间距离) 0 a b 溶胶稳定的原因: 1) 胶粒带电 ? 增加胶粒间的排斥作用; 2) 溶剂化作用 ? 形成弹性水化外壳,增加溶胶聚合 的阻力; 3) Brown运动 ? 使胶粒受重力的影响而不下沉。 2. 憎液溶胶的聚沉 溶胶粒子合并、长大,进而发生沉淀的现象,称为聚沉。 (1) 电解质的聚沉作用 聚沉值?使溶胶发生明显的聚沉所需电解质的最小浓度 聚沉能力?聚沉值的倒数 EA 曲线的形状由粒子本性决定,不受电解质影响; ER 曲线的形状、位置强烈地受电解质浓度的影响。 电解质浓度与价数增加,使胶体粒子间势垒的高度与位置发生变化。 ER EA E c1 c2 c3 势 能 0 电解质浓度: c1 c2 c3 , 电解质浓度?,ER?,E?, 溶胶稳定性?。在 c3 以后, 引力势能占绝对优势,分散 相粒子一旦相碰,即可聚合。 * 第十二章 胶体化学 在此幻灯片插入公司的徽标 从“插入”菜单 选择图片 找到徽标文件 单击“确定” 重新设置徽标大小 单击徽标内任意位置。徽标外部出现的方框是“调整控点” 使用这些重新设置对象大小
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