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330陶瓷工艺-烧成
* * * * SPS利用直流脉冲电流直接通电烧结的加压烧结方法,通过调节脉冲直流电的大小控制升温速率和烧结温度。整个烧结过程可在真空环境下进行,也可在保护气氛中进行。烧结过程中,脉冲电流直接通过上下压头和烧结粉体或石墨模具,因此加热系统的热容很小,升温和传热速度快,从而使快速升温烧结成为可能。 * 3.2 选择适当模具 计算所需粉体质量 填充模具 施加压力 放入等离子体烧结 静压成型 电脑调节烧结参数等离子体快速烧结 试样成品 性能检测与研究 * 试验操作:将试样装入石墨模具中,模具置于上下电极之间,通过油压系统加压,然后对腔体抽真空,达到要求的真空度后通入脉冲电流进行实验。 脉冲大电流直接施加于导电模具和样品上,通过样品及间隙的部分电流激活晶粒表面,在孔隙间局部放电,产生等离子体,粉末颗粒表面被活化、发热; 通过模具的部分电流加热模具,使模具开始对试样传热,试样温度升高,开始收缩,产生一定的密度,并随着温度的升高而增大,直至达到烧结温度后收缩结束,致密度达到最大。 * 3.3 烧结气氛 烧结气氛对样品烧结的影响很大(真空烧结情况除外),合适的气氛将有助于样品的致密化。 * 在氧气气氛下,由于氧被烧结物表面吸附或发生化学反应作用,使晶体表面形成正离子缺位型的非化学计量化合物,正离子空位增加,同时使闭口气孔中的氧可直接进入晶格,并和氧离子空位一样沿表面进行扩散,扩散和烧结加速。当烧结由正离子扩散控制时,氧化气氛或氧分压较高并有利于正离子空位形成,促进烧结;由负离子扩散控制时,还原气氛或较低的氧分压将导致氧离子空位产生并促进烧结。 在氢气气氛下烧结样品时,由于氢原子半径很小,易于扩散并有利于闭口气孔的消除,氧化铝等类型的材料于氢气气氛下烧结可得到接近于理论密度的烧结体样品。 烧结温度 烧结温度是等离子快速烧结过程中一个关键的参数之一。烧结温度的确定要考虑烧结体样品在高温下的相转变、晶粒的生长速率、样品的质量要求以及样品的密度要求。一般情况下,随着烧结温度的升高,试样致密度整体呈上升趋势,这说明烧结温度对样品致密度程度有明显的影响,烧结温度越高,烧结过程中物质传输速度越快,样品越容易密实。 但是,温度越高,晶粒的生长速率就越快,其力学性能就越差。而温度太低,样品的致密度就很低,质量达不到要求。温度与晶粒大小之间的矛盾在温度的选择上要求一个合适的参数。 等离子烧结时准确测量烧结温度是一个比较困难的问题。因为: 产生等离子体的微波或高频波严重干扰双金属热电偶,从而无法用热电偶测量温度。 由于等离子体发光和石英管遮挡的干扰,用光学高温测量计将引入较大的误差。 对于非常高温的烧结体用红外线测温仪,由于模具头两端受力不均匀,使得测量结果偏离准确值,因而引起实验误差。 * 保温时间 延长烧结温度下的保温时间,一般都会不同程度地促进烧结完成,完善样品的显微结构,这对粘性流动机理的烧结较为明显,而对体积扩散和表面扩散机理的烧结影响较小。在烧结过程中,一般保温仅1分钟时,样品的密度就达到理论密度的96.5%以上,随着保温时间的延长,样品的致密度增大,但是变化范围不是很大,说明保温时间对样品的致密度虽然有一定的影响,但是作用效果不是很明显。但不合理地延长烧结温度下的保温时间,晶粒在此时间内急剧长大,加剧二次重结晶作用,不利于样品的性能要求,而时间太短会引起样品的致密化下降,因此需要选择合适的保温时间。 升温速率 时间升温速率的加快,使得样品在很短的时间内达到所要求的温度,晶粒的生长时间会大大减少,这不仅有利于抑制晶粒的长大,得到大小均匀的细晶粒陶瓷,还能节约时间、节约能源以及提高烧结设备的利用率。但是,由于设备本身的限制,升温速率过快对设备会造成破坏性影响。因此在可允许的范围内尽可能的的加快升温速率。但是,在实测的实验数据中反映到。与烧结温度和保温时间不同,升温速率对样品致密度的影响显示出相反的结果,即随着升温速率的增大,样品致密度表现粗化逐渐下降的趋势,有学者提出这是因为在烧结温度附近升温速率的提高相当于缩短了保温时间,因而样品致密度会有所下降。 * 三、自蔓延高温合成SHS (Self-propagation High temperature Synthesis), 又称燃烧合成(Combustion Synthesis缩写CS) * 自蔓延高温合成技术发展历史 前苏联科学院宏观动力与结构研究所Merzhanov、Borovinskaya和Skhiro等人在上世纪70年代开始了过渡金属与硼、碳、氮气反应的实验,在研究金属钛和硼的混坯块的燃烧时,发现燃烧反应能以很快的速率传播,后来又发现许多金属和非金属反应形成难熔化合物
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