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专利布局典型模式
专利布局几种模式的解释
特定的阻绝与回避设计
特定的阻绝是指仅用一个或少数几个专利来保护特定用途的发明,申请与维护成本较低。缺点是竞争者容易利用回避设计来避开专利的效力。
回避设计是指专利工程师采用不同于已知的专利保护的技术方案,设计新的规格、性能、手段等,从而避开他人某项目具体专利权的保护范围。回避设计的方式有很多种,且所需经费和时间也少。
成功的回避设计必须同时满足两个条件:法律上的条件。要求专利侵权判定中不会被判为侵权;商业上的条件,在商业竞争中不至于因成本过高而失去竞争力.
代表竞争者研发方向
图1 单一专利阻绝和回避设计
图2 多专利阻绝与回避设计
策略型专利
专利权拥有者想要保有竞争优势,就应该避免让竞争对手有回避设计的机会,否则该专利就容易完全失去价值。策略型专利是一个具有较大阻绝功效的专利,像是某特定产品领域所必须的技术或是路障性专利等,具有阻碍性高、无法回避设计的特点。
图3 策略型专利
地毯式专利布局
如果没有绝佳的策略型专利,也可以形成类似于布雷区的地毯式专利布局,例如有系统的在每一步骤中用专利来形成地雷区,以阻断竞争者进入,而对于强行侵入技术领域的竞争对手,也可通过专利诉讼的方式将其逐出该领域。
地毯式专利布局模式一般可用于不确定性高的新兴技术、各种研发方向都能产出结果、或是专利的重要性尚未明朗化的时期,该种布局有一定条件和要求:足够的资金以及研发能量的配合,如果没有系统性的专利布局则容易演变为专利泛滥,无法发挥预期效果。
图4 地毯式专利布局
为节省成本,企业或研究单位单纯地从技术的角度考虑会剔除次要的专利以降低申请和维护专利的成本,以及维持专利整体的品质。但是这些研发人员眼中的小专利或垃圾专利,有时却可能成为竞争对手的麻烦专利,阻碍其研发与专利权的取得。同时由于整体专利数量达到一定规模,在专利授权谈判时能拥有较大的谈判筹码。
专利围墙
专利围墙是利用系列式的专利形成对竞争对手研发的阻碍,例如一项与化学相关的发明,将其化学子程式、分子设计、几何形状、温度等范围的变化都申请专利保护,形成一道围墙,以防止竞争对手有任何缝隙刻意回避。当许多不同的技术解决方案都可达到类似功能的结果时就可以考虑专利围墙的布局模式。
图5 专利围墙布局
包绕式专利布局
以多个小专利包绕着竞争对手的重要专利,这些小专利本身价值性或许不高,但其组合却可以阻碍竞争对手重要专利的有效商业应用。例如以各种不同的应用来包绕基础型专利,很可能就使得基础型专利的价值荡然无存,当竞争对手有基础性专利时,就可以透过包绕式专利作为交互授权谈判的筹码。另一方面,如果企业本手有重要的基础型专利时,应先自行透过研发形成自己的包绕式专利布局,避免让竞争对手采取该模式。
图6 包绕式专利布局
组合式专利布局
以各种结构和方式形成如网络版的组合式专利布局,从而强化技术保护的强度或陈伟谈判有利的筹码。包绕式专利布局模式就是一个可供参考的模式之一,以一个基础性专利包绕几个次要的应用型专利,甚至以多个包绕式专利布局形成紧密的专利网络,阻绝竞争者的研发方向。
图7 组合式专利布局
企业或研究单位在思考要采取哪种专利布局模式时,可以从专利布局的深度及广度来考虑。就深度而言,某一技术领域基本专利到相关的配套/衍生专利共同形成坚实的保护网,则可建立技术垄断的地位,这通常需要长时间的耕耘才能达成。
就广度而言,与基本技术的可能应用范围中广泛的获得外围技术的专利保护,则可使得保护范围更加完整,有利于主导整个技术领域和市场的走向,但若预期的应用范围很广,想要囊括所有相关技术的投资成本可能很庞大。
代表竞争者专利
代表企业单一专利
代表竞争者研发方向
代表企业单一专利
代表竞争者专利
X:代表竞争者的专利
代表企业单一专利
代表竞争者研发方向
代表企业专利
代表竞争者研发方向
代表企业专利
代表竞争者研发方向
代表竞争者专利
代表企业专利
代表竞争者专利
代表企业专利
代表竞争者研发方向
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