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IdentityCardoftheECR-CVD-国家奈米元件试验室
ANELVA SiGe UHVCME 機台身份證
全名: 超高真空化學系統
位置: Class 10
工程師: (O) ext.: 7638
代理人: (O) 7557
機台負責人: (O) ext.: 7638
作業區域化學品:
大宗氣體:N2CDA
特殊氣體:Si2H6、SiH4、Si3CH3、GeH4、0.1% 1% PH3/H21% B2H6/H2、PH2
瓶裝化學品:
有機化合物:
酸/鹼劑:
氧化物:
其他:
製程模式或反應腔:
熱化學氣相反應模式
冷壁式不銹鋼反應腔
反應腔真空度範圍: 製程狀態:10-4 torr (待機狀態:10-9 torr)
抽真空泵浦: Turbo and Rotary pumps
尾氣排放物種: Si2H6、SiH4、Si3CH3、GeH4、PH3、B2H6、H2
抽尾氣泵浦種類: Dry pump
尾氣排放有無獨立之Local Scrubber:
反應腔溫度範圍: 950°C (Max.)
冷卻系統種類: 廠務供應冷卻水
製造商或代理商:
代理商工程師:
更新日期: / 18 / 2013
實驗室機台設備安全宣告
操作期間無論發生有感地震、停電、毒氣或火災警報的狀況時,所有的人必須立即循逃生方向撤離實驗室。
遇有氣體外洩、火災燃燒或人員傷害等緊急狀況時,請通知緊急應變指揮中心協助處理(分機 7762)。
確認使用該機台可能需要防護具的使用方法及其所在位置,例如:緊急沖淋器、空氣呼吸器、滅火器、藥膏等。
此系統只允許核可使用者才能操作。
實驗條件之設定狀況不得超過原有之設定範圍(如氣體流量、製程溫度、時間等)。
請注意工程師公告機台設備相關之停用製程或服務功能。如有發現其他同學不按照規定使用機台設備(未登記使用紀錄、未依SOP操作,使用不被允許或其他可能造成機台損壞的物料),請儘速告知工程師(分機7)或工安人員(分機7737) 處理。
機台設備如果有不能正常工作的狀況時,請先查閱之前紀錄且將發生狀況說明於紀錄簿上,工程師會儘速診斷原因並予以回應。
在你離開前,請注意再確認所有機台狀況,例如晶片承接座、晶片升降台位置是否正確,加熱器電源、風扇是否關閉。並且,詳實填寫實驗紀錄簿。
目前機台預約採電話預約,請直接以電話和工程師進行預約。
請保持機台設備附近的環境清潔及秩序。這是大家共同的實驗室。
任何人若不遵守以上指示將會依國家奈米元件實驗室管理規則懲處。
UHVCME 標準操作程序
一、晶片置入
晶片在進入機台前,需經過標準的晶片清洗程序:STD或RCA清洗。
刷卡開機。
按下ESC,螢幕左上角會出現一指令視窗,選擇PUMP CONTROL後按下ENTER。
執行1-後,出現新的子指令視窗,選擇LOAD CH. VENT後按下ENTER。
待鈴聲響起,按下螢幕右邊的BUZZER RESET按鍵。
約1分鐘後,打開Load Chamber的門。
對準晶片平邊朝左,鏡面朝下,將晶片
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