OLED制备工艺报告.doc

目录 1激光热转印 1 1.1激光热转印方法： 2 1.2 LITI OLED显示器的性能 2 1.3 采用LITI工艺的主要厂商 2 1.4 LIPS工艺 3 2 喷墨打印 4 2.1 喷墨打印技术工艺 5 2.1.1聚合物溶液 5 2.1.2精确的定位 5 2.1.3薄膜厚度均匀性 6 2.2 喷墨打印技术的应用 7 2.3 喷墨打印设备研发情况 7 2.4 喷墨打印的发展趋势 8 2.4.1全打印 9 2.4.2超声打印头 9 2.4.2小分子 9 3热发泡式 9 3.1 Kateeva公司的T JetTM技术 10 3.2总结 11 1激光热转印 激光热转印(Laser Induced Thermal Imaging，LITI)技术是一种全彩色AMOLED像素图形制造技术。LITI技术有很多独特的优点，如精度高、可靠性好、转印的薄膜厚度均匀、具有多层薄膜叠加转移能力、分辨率高以及易于在大尺寸基板上生产等。LITI方法既可以使用热蒸发小分子材料也可以使用可溶性旋涂材料，是制造高分辨率、大尺寸全彩色AMOLED的理想方法。激光感应热成像（即激光热转印）方法是利用一套供体胶片、一组高精度的激光曝光系统和一副衬底来完成的。激光成像系统由激光器、光波调节器、校准与光束扩张光学组件、衰减器、电流计和f-θ扫描透镜组成。 LITI过程描述如下：首先，将热转印的供体压在基质上，供体与受体表面必须紧密接触。然后，用激光束对供体的成像模板进行曝光，结果成像图案从供体接触面向传输层（光发射材料）释放，并附着在传输层的受体接触面上。最后，将使用过的供体剥离，这样在曝光区内的高分辨率条纹就被转印了。为了形成全彩色的显示，顺序使用红、绿、兰3种供体胶片。LITI转印是一种具有独特优势的激光寻址高分辨率图形处理方法，例如，转印胶片的厚度极其均匀，多层叠的转印能力及具有可扩展性的大尺寸母板玻璃等等。由于这是一种干法工艺，所以LITI转印不受转印层可溶性物质的影响。因此，我们能够提出衬层的可溶性空穴传输层的解决办法，并提高OLED的性能。LITI成像方法提供了具有极好的厚度均匀性的平直、光滑和均匀的成像条纹。光发射材料能够通过旋涂、丝网涂敷、或真空喷镀等方法涂敷到供体胶片之上。LITI成像精度高于±2.5μm，这种特殊的精度是LITI转印技术的一个与众不同的优点。采用LITI技术，能够获得超过200ppi的极高分辨率图像。与传统的精密掩膜板方法（极限分辨率为150ppi）相比，这是一个显著的性能特点。 1.1激光热转印方法： LITI工作原理如图1所示 施主薄膜(Donor film)的结构可分为3层：聚合物基板、光热转换层和OLED材料层。OLED材料层的制作可采用常规的热蒸镀方法或溶解在溶剂中旋涂成膜。在激光转印过程中．光热转换层(Light-to-Heat Conversion，LTHC)吸收激光能量，转化为热能。使激光照射部位的OLED材料层脱离施主薄膜，转印到基板上。LITI的工作机制主要是黏附/脱离，其间也有很弱的烧蚀作用产生，在施主薄膜内部产生轻微的膨胀。 1.2 LITI OLED显示器的性能 AMOLED和AMPLED都可以采用LITI方法制作。就显示性能而言。采用热蒸镀成膜的小分子OLED要好于溶液成膜的高分子PLED。LITIOLED的器件结构与常规的OLED结构相同。虽然LITI工艺是在大气环境下进行的，但LITI OLED器件的效率和色纯度完全可以和真空蒸镀的器件媲美。经过LITI工艺转印的OLED材料与热蒸镀的材料相比．在电性能方面有些微的不同。LITI工艺对OLED材料的电子迁移率、陷阱态密度和本征载流子密度有一定影响．但使用任何常用的分析仪器，包括透射电子显微镜的断层扫描。都未能发现二者在界面和膜层厚度上有明显差别。研究人员发现吗，在N2或惰性气体保护氛围下，LITI工艺制作的OLED器件的可靠性有所提高。 1.3 采用LITI工艺的主要厂商 三星SDI的LITIOLED中试生产线可以使用尺寸为730 mm×920mm的第4代玻璃基板。中试生产线主要由以下设备组成：l条玻璃清洗线；1台预处理设备；1台金属蒸镀设备；2台OLED材料蒸镀设备；l台施主薄膜处理设备；1个激光转印系统和1个封装系统。中试生产线的设备性能与常规的热蒸镀工艺基本相同，最主要的差别是中试生产线的OLED材料热蒸镀设备可以在柔性基板上镀膜。 1.4 LIPS工艺 SONY开发LIPS(Laser?Induced?Pattern?wise?Sablimation)激光转技术，它是在将激光照射在已经涂布发光材料的玻璃表面所构成寄生体(donor)基板使发光材料升华，接着再转印到设置在对向位置的TFT基板表面，此时若对长膜部位照射选择性激光，可以获得无光罩的