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XPS研究大气环境下热处理温度对玻璃基TiN薄膜组成与结构的影响.PDF
23 1 武 汉 理 工 大 学 学 报 Vol.23 No. 1
20011 JOURNAL OF WUHAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY Jan. 2001
XPS
TiN *
赵青南 赵修建
( )
: 用直流反应磁控溅射法在浮法玻璃基片上制备了TiN 薄膜镀膜试样在大气环境下分 经520
e 570 e 和620 e 热处理10 min用X 射线光电子能谱( XPS) 得到的结果显示, 经520 e 热处理的试样,TiN
薄膜上出现了TiN O 层经570 e 热处理的试样,TiN 薄膜上的TiN O 成分减少,TiO 的含量增加, 620 e 热
x y x y 2
处理的试样表面上主要是TiO 570 e 和620 e 热处理的试样表面上存在少量来源于TiN 热氧化分解的单
2
质氮
: XPS; TiN 薄膜; 磁控溅射; 热处理
: TQ 171.72
, ,
; , ,
, ,
[ 1]
,
[2]
, , , ,
[ 3]
, , TiN ,
, TiN ,
, ,
, TiN TiN O [4~ 5]
x y
[6]
TiN 650 e , , TiN
, TiN ,
TiN , X
520 e 570 e 620 e 10 min , TiN
1
1. 1
(99%) ,45 mm, 75
W5. 0@ 10 3 Pa, 0. 17~ 0.40 Pa, N BAr 1. 0~ 2. 0
2
40 nm 15 mm,
, , 520 e 570 e 620 e 10 min
1.2
X : V. G. ESCALAB MKII,MgKA (hT= 1 253. 6 eV) , C =
1s
:2000 11 24.
: , 1963 , ; : ( 430070) .
* ( ) (99087) .
23 1 :XPS TiN 13
284. 60 eV , 0. 05 eV, 0. 45 eV
[7]
2
1TiN XPS 1, Ti N,
O
2 TiN N1s Ti2p XPS
2 , Ti2p 455. 9
3/ 2
eV,N1s 399. 65 eVTi2p
3/ 2
[8] [8]
, N1s
2 eV, , 2 N1s
, N ; 2
[ 9]
Ti2p ,
3/ 2
TiN , ,
TiN N Ti
TiN0.94 N 1,
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