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乙炔流量薄膜械性影之研究玉森安成佳良立高雄第一科技大械自化工程系摘要本研究利用非平衡磁控在高速表面上薄膜主要是要探乙炔流量薄膜械性之影固定中源矽及碳靶流安培直流源碳靶源安培基材偏伏特基板治具速基板偏率仟赫之子伏特改乙炔流量行果由分析得知此薄膜中同含有在械性部分乙炔流量逐上升磨耗率由原本的降低其耐磨耗性可提高倍而硬度降低字非平衡磁控薄膜乙炔流量一前言碳薄膜的特徵有高硬度越的耐磨耗性表面平滑摩擦小耐腐性近外光的透光率佳以及性良好等一般用在刀具膜切削工具及生工件上其越的特性可以提升工具的命以降低生的成
乙炔流量對Si-DLC 薄膜機械性質影響之研究
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楊玉森 羅安成 鍾佳良
1 國立高雄第一科技大學機械與自動化工程系
摘要
本研究利用非平衡磁控濺鍍在 SKH51 高速鋼表面上濺鍍 Si-DLC 薄膜,主要是要探討乙
炔流量對Si-DLC 薄膜機械性質之
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