刻蚀设备与工艺介绍.pptx

一、安全 二、电池工艺流程 三、刻蚀设备与工艺介绍 ;;; ; ; ;三、SCHMID 机台外观;; RENA刻蚀专辑; ;RENA刻蚀的机理;链的触发： 硝酸将硅氧化成二氧化硅，生成二氧化氮或一氧化氮 Si+4HNO3=SiO2+4NO2+2H2O (慢反应) Si+2HNO3=SiO2+2NO+2H2O (慢反应) 链的扩展： 二氧化氮、一氧化氮与水反应，生成亚硝酸，亚硝酸很快地将硅氧化成二氧化硅 2NO2+H2O=HNO2+HNO3 (快反应) Si+4HNO2=SiO2+4NO+2H2O (快反应)（第一步的主反应） 4HNO3+NO+H2O=6HNO2(快反应) 只要有少量的二氧化氮生成，就会和水反应变成亚硝酸。只要少量的一氧化氮生成，就会和硝酸、水反应很快地生成亚硝酸。亚硝酸会很快的将硅氧化，生成一氧化氮，一氧化氮又与硝酸、水反应。造成硅的快速氧化，硝酸则最终被还原成氮氧化物。 最终硅片背面（与刻蚀溶液接触）被氧化。 ;RENA刻蚀的机理;刻蚀线; 刻蚀线一般是淡淡的一条黑线。有时在边缘会有很显眼的很黑很黑的线或黑区，这些东西就不是刻蚀线了，而是没有洗干净的酸，此时需要在碱槽手动补碱来解决。如果多次出现这种情况，必须检查碱洗槽是否堵碱。;亚硝酸本身并不是特别稳定，它会慢慢分解。在时刻时停的小批量生产时，溶液中的亚硝酸浓度的平衡点不会超过一定的限度，刻蚀溶液会一直保持无色。大批量生产时，亚硝酸浓度平衡点会有所上升，亚硝酸浓度的略微增加，会导致有一个有趣的现象——溶液颜色变成淡绿色和绿色。 只要刻蚀正常，溶液颜色变绿不会对片子效率产生任何影响。刻蚀不合格片时可能会将一些杂质引入刻蚀溶液，污染刻蚀溶液，但这与变绿无关。;RENA刻蚀槽外观; 传说中的 裘千仞的“水上漂”，想拥有吗？ 绝对给力！！！;Edge isolation through back side emitter removal;RENA刻蚀槽——轻功“水上漂”;; 酸洗 HF和HCl，中和掉硅片表面残余的碱，去除残存的氧化物和重金属 HF去除硅片表面氧化物 盐酸具有酸和络合剂的双重作用，氯离子能与 Pt2+、Au3+、Ag+、Cu2+、Cd2+、Hg2+等金属离子形成可溶于水的络合物。 ; SCHMID专辑; SCHMID机台刻蚀的原理与RENA相同，所以这里不再重复对化学反应的探讨，主要关注的是一些不同点。; RENA刻蚀槽采用“水上漂”的原理进行硅片背表面和四周的刻蚀； SCHMID采用 滚轮带液 的原理进行刻蚀。;SCHMID滚轮带液;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;;