MET-SI-8型亚沸腾微流控挥硅系统.PDF

重庆密奥仪器有限公司 挥硅实验装置 MET­Si 型亚沸腾微流控挥硅系统 系统概述 多晶硅生产控制和质量保证的重要指标之一就是生产过程中三 氯氢硅纯度的控制和检测。目前6N 以上三氯氢硅中痕量B 、P及金属 杂质的检测是一项世界难题，所面临的最大困难不是分析设备的精度 问题，而是挥硅过程中硅残留和杂质挥发所带来的严重干扰和流失， 导致光谱(或质谱)分析存在严重谱线干扰、检测回收率低，而且不稳 定，甚至无规律可循。而国内多晶硅企业由于起步晚，专业知识和技 术较为缺乏，面临困难很多，致使三氯氢硅的分析检测处于摸索阶段， 无法准确进行工艺过程控制。 本系统正是基于此现状，经过近四年的攻关和大量实验，以及多 晶硅企业的实际使用，经数次改进，解决了此问题。 MET-Si 型亚沸腾微流控挥硅系统 首次引入了全球最先进的高 纯电子试剂提纯理论亚沸腾蒸馏理论，并开创性的将这一理论与 微流控制理论、减压蒸馏理论同时应用于一体之中，经科学设计和反 复验证，制造成该种专门用于多晶硅样品预处理的专业设备。该系统 使三氯氢硅的预处理在亚沸腾状态下完成，先进行选择性化学反应， 使待测元素经分子(基团)重组，再在亚沸腾状态下蒸馏，确保样品高 回收率和硅元素的完全去除，避免了硅的基体干扰，提高了分析可靠 性和准确度。 由于它同时应用了亚沸腾、微流控制和减压蒸馏三大手段，又结 合了高纯度材料，因此在实际应用中可以发挥其无可比拟的优势，做 1 重庆密奥仪器有限公司 挥硅实验装置 到安全、准确、快速的解决样品预处理这一大难题。 本挥硅系统采用密闭式实验柜体，整体装置完全采用非金属材 料，结合腹膜技术制造，同时对实验气体源进行一系列净化措施，可 以保证实验氛围的洁净度达到 10 级水平。 图1：挥硅系统流程结构示意图（请勿根据本图制造） 备注：公司对客户每一个特殊应用都会仔细评价，并依据客户特殊需求提 供适合的设备。 ——主要作用： * 提高硅及其衍生物样品预处理的安全性、稳定性、平行性。 2 重庆密奥仪器有限公司 挥硅实验装置 * 降低氯硅烷样品预处理过程中痕量杂质成分的损失。 * 极大的缩短样品预处理的时间。 ——主要特点： * 结构灵活，实验柜体可以依据实验需求和实验室现场而定。 * 实验气体源预处理单元与挥发单元相互独立，易于清理和更换。 * 流量调节装置可供实验人员检查、调节实验气体的流量和压力。 * 挥硅装置腔内温度全程监测，方便实验人员检查、调节实验温度。 * 实验腔体用透明有机材料制作，能清晰地观察到样品反应情况。 * 实验柜保护罩有视窗可供实验人员观察，避免接触渗出酸气。 * 抽风口可以抽取实验中微渗出的气体，保护实验人员、仪器安全； * 每一个操作步骤在盘面上都有清楚标示。 ——系统大致构成： * 基本结构：固定式实验柜。 * 柜内配置：完整的净化单元 流量压力调节装置 气体预热装置 温度调节装置 实验腔体 实验杯槽 加热及温度调节装置 真空调节装置 连接方式：腔体罩与入口和出口流路采用软管连接，方便操作。 ——耐氢氟酸PP实验柜： * 柜体采用15mm厚进口瓷白PP材料制作，具有极佳的耐HF性能； * 挥发器台面采用进口石墨凹型材料，耐氢氟酸腐蚀，台面边缘加厚； 3 重庆密奥仪器有限公司