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用模於分析林俊志法人研究中心子地址彰化鹿港鹿工南七路摘要磁干生的因素繁多久以一直是子二文回及系在上的一大盲然而以在流程上完成板打後再至的手段於後端行特性分析常常陷入法收的困室行但若法足磁干境之要求其亦得知生之方向因此以有之子品所生的磁干地在改良上需耗多本文透磁模的往往被忽略但地又是提供信在板局完成後即入模利路的回流而返流信就走在考面路所用模分析之果得知磁干生之位成的面越大所形成的流面也越大此路面在置以及原因地不良而生的目前常高的候容易受到高耦合效而造成耦合射之而此可以由完整生故在中往往建地之放不
應用 SIWAVE模擬於 Return Current 分析
林俊志
財團法人車輛研究測試中心 電子檢驗課
地址:50544彰化縣鹿港鎮鹿工南七路 6號
Email :cclin@.tw
摘要:電磁干擾產生的因素繁多,長久以來一直是電子 二、文獻回顧
裝備及系統在設計上的一
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