华梵大学微机电系统及半导体无尘室安全工作规范.doc

華梵大學微機電系統及半導體無塵室安全工作規範 一、無塵室須知 1. 進入無塵室前，必須知會管理人，並通過基本訓練。 2. 進入無塵室嚴禁吸煙，吃(飲)食，外來雜物(如報章，雜誌，鉛筆...等)不可攜入，並嚴禁嘻鬧奔跑及團聚談天。 3. 進入無塵室前，需在規定之處所脫鞋，將鞋置於鞋櫃內，外衣置於衣櫃內，私人物品置於私人櫃內，櫃內不可放置食物。 4. 進入無塵室須先在更衣室，將口罩，無塵帽，無塵衣以及鞋套按規定依程序穿戴整齊，再經空氣洗塵室洗塵，並踩踏除塵地毯(洗塵室地板上)方得進入。 5. 戴口罩時，應將口罩戴在鼻子之上，以將口鼻孔蓋住為原則，以免呼吸時污染晶片。 6. 穿著無塵衣，無塵帽前應先整理服裝以及頭髮，以免著上無塵衣後，不得整理又感不適。 7. 整肅儀容後，先戴無塵帽，無塵帽的穿戴原則係: (1)頭髮必須完全覆蓋在帽內，不得外露。 (2)無塵帽之下擺要平散於兩肩之上，穿上工作衣後，方不致下擺脫出，裸露肩頸部。 8. 無塵帽戴妥後，再著無塵衣，無塵衣應尺吋合宜，才不致有褲管或衣袖太短而裸露皮膚之虞，穿衣時應注意帽之下擺應保平整之狀態，無塵衣不可反穿。 9. 穿著無塵衣後，才著鞋套，拉上鞋套並將鞋套整平，確實蓋在褲管之上。 10. 戴手套時應避免以光手碰觸手套之手掌及指尖處(防止鈉離子污染)，戴上手套後，應將手套之手腕置於衣袖內，以隔絕污染源。 11. 無塵衣著妥後，經洗塵，並踩踏除塵毯，方得進入無塵室。 12. 不論進入或離開無塵室，須按規定在更衣室脫無塵衣，不可在其它區域為之，尤不可在無塵室內邊走邊脫。 13. 無塵衣，鞋套等，應定期清洗，有破損，脫線時，應即換新。 14. 脫下無塵衣時，其順序與穿著時相反。 15. 脫下之無塵衣應吊好，並放於更衣室內上層櫃子中;鞋套應放置於吊好的無塵衣下方。 16. 更衣室內小櫃中，除了放置無塵衣等規定物品外，不得放置其他物品。 17. 除規定紙張及物品外，其它物品一概不得攜入無塵室。 18. 無塵衣等不得攜出無塵室，用畢放置於規定處所。 19. 口罩與手套可視狀況自行保管或重覆使用。 20. 任何東西進入無塵室，必須用洒精擦拭乾淨。 21. 任何設備的進入，請知會管理人，在無塵室外擦拭乾淨，方可進入。 22. 未通過考核之儀器，禁止使用，若遇緊急情況，得依緊急處理步驟作適當處理，例如關閉水、電、氣體等開關。 23. 無塵室內絕對不可動火，以免發生意外。 二、無塵室操作須知 處理晶片時，必須戴上無纖維手套，使用清洗過的乾淨鑷子挾持晶片，請勿以手指或其他任何東西接觸晶片，遭碰觸污染過的晶片須經清洗，方得繼續使用： (1) 任何一支鑷子前端(即挾持晶片端)如被碰觸過，或是鑷子掉落地上，必須拿去清洗請勿用紙巾或布擦拭髒鑷子。 (2) 晶片清洗後進行下一程序前，若被手指碰觸過，必須重新清洗。 (3) 把晶片放置於石英舟上，準備進爐管時，若發現所用鑷子有污損現象或晶片上有顯眼由鑷子所引起的污染，必須將晶片重新清洗，並立即更換乾淨的鑷子使用。 2. 晶片必須放置盒中，蓋起來存放於規定位置，儘可能不讓它暴露。 3. 避免在晶片上談話，以防止唾液濺於晶片上，在晶片進擴散爐前，請特別注意，防止上述動作產生，若晶片上沾有纖維屑時，用氮氣槍噴之。 4. 從鐵弗龍(Teflon)晶舟，石英舟(Quartz Boat)等載具(Carrier)上，取出晶片時，必須垂直向上挾起，避免刮傷晶片，顯微鏡鏡頭確已離晶片，方可從吸座上移走晶片。 5. 晶片上，若已長上氧化層，在送黃光室前切勿用鑽石刀在晶片上刻記。 6. 操作時，不論是否戴上手套，手絕不能放進清洗水槽。 7. 使用化學站或烤箱處理晶片時，務必將晶片置放於鐵弗龍晶舟內，不可使用塑膠盒。 8. 擺置晶片於石英舟時，若晶片掉落地上或手中則必須重新清洗晶片，然後再進氧化爐。 9. 請勿觸摸晶片盒內部，如被碰觸或有碎晶片污染，必須重作清洗。 10. 手套，廢紙及其它雜碎東西，請勿留置於操作台，手套若燒焦、磨破或纖維質變多必須換新。 11. 非經指示，絕不可開啟不熟悉的儀器及各種開關閥控制鈕或把手。 12. 奇怪的味道或反應異常的溶液，顏色，聲響等請即通知相關人員。 13. 儀器因操作錯誤而有任何損壞時，務必立刻告知負責人員或老師。 14. 晶片盒進出無塵室須保持乾淨，並以保鮮膜封裝，違者不得進入。 15. 無塵室內一律使用原子筆及無塵筆記本做記錄，一般紙張與鉛筆不得攜入。 三、黃光區操作須知 1. 濕度及溫度會影響對準工作，在黃光區應注意溫度及濕度，並應減少對準機附近的人，以減少濕、溫度的變化。 2. 上妥光阻尚未曝光完成之晶片，不得攜出黃光區以免感光。 3. 己上妥光阻，而在等待對準曝光之晶片，應放置於不透明之藍黑色晶盒之內， 盒蓋必須蓋妥。 4. 光罩使用時應